中古 BRANSON / IPC L3200 #9353028 を販売中

ID: 9353028
Plasma asher Photoresist stripper for 8" wafer cassette Black wafer disc tray DB25 Serial RS232 PRI / EQUIPE ESC 200 Wafer robot controller BROOKS / PRI AUTOMATION ATM-104-1 Wafer handling robot End effector dimensions: 7.75" x 1.25" (LxW) (2) Gas inlets: O2 and CF4 ​N2 Purge DWYER RMA-5-99V Air gauge EUROTHERM 808 Temperature controller MKS Baratron Sensor, 10 Torr MKS 622A11TDE Does not include dry vacuum pump Power supply: 208 V, 30 Amps, 50/60 Hz.
BRANSON/IPC L3200 etcher/Asherは、さまざまな用途で正確で正確な材料除去を専門家に提供する最先端のエッチングおよびアッシング機器です。IPC L3200は材料損失の最低の表面に正確に/灰パターンをエッチングするように設計されている多層エッチャー/アッシャーです。BRANSON L 3200は、電気的に活性化された、化学的に基づいた、そして高エネルギーのプラズマ技術の組み合わせにより、優れた精度と再現性で望ましい結果を得ることができます。IPC L 3200のデュアルタンク設計により、クロスコンタミネーションなしで同じシステムでエッチングとアッシングの両方を行うことができ、生産ラインや大規模なオペレーションに最適です。エッチタンクは電気化学技術を使用しており、電流を使用してエッチング剤を作動させ、表面を信じられないほどの精度でエッチングすることができます。アッシングプロセスは、不要な材料を制御して蒸発させる高エネルギーのプラズマプロセスを利用し、クリーンで残留物のない表面を残します。BRANSON/IPC L 3200のコンパクト設計により、必要な床面積を最小限に抑え、あらゆる生産環境での使用に最適です。高速スループットを確保する高性能コンベアユニットを装備しています。ユーザーフレンドリーなコントロールにより、簡単なセットアップが可能で、エッチング/アッシング時間、電圧、温度などのパラメータを迅速かつ正確に設定できます。L3200は、機械的研磨と研削で得られた表面と同じくらい滑らかな高品質のエッチング/アッシング表面を生成します。また、優れた腐食および応力耐食性を提供します。さらに、L 3200の正確な性能により、消耗品のコストは最小限に抑えられています。結論として、BRANSON L3200 Etcher/Asherは、精密制御と使いやすさを組み合わせ、さまざまな材料や用途に優れた表面処理を提供する強力で汎用性の高いエッチングおよびアッシング機です。デュアルタンク設計は、電気化学技術とプラズマ技術の両方を利用して、材料損失を最小限に抑えた正確で繰り返し可能なエッチング/アッシングプロセスを提供します。直感的なユーザーインターフェイスと低コストの消耗品を備えたBRANSON/IPC L3200は、望ましい結果を迅速かつ効率的に提供できる堅牢なツールをお探しの方に最適です。
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