中古 BRANSON 2000X #9107498 を販売中

BRANSON 2000Xは、半導体ウェーハのマイクロエッチング用に設計された特殊なエッチャー/アッシャーです。これは、高貴なガスの窒素飽和混合物を使用して、半導体ベースのデバイスの活性層を暴露します。最大12µmのエッチング深度を実現し、基板開発、デバイス試作、ウェーハパターニングなど幅広い用途に適しています。2000Xは、エッチングプロセス中に非常に精密な制御を可能にするユニークな2段階の真空プロセスを利用しています。最初の段階では、チャンバーは密閉され、窒素ガスは所望の圧力に達するまでチャンバーに導入されます。第2段階では、チャンバーが通気され、窒素ガスがゆっくりと脱出することができ、エッチング処理を一定で繰り返し可能にします。また、エッチング工程は機械前面のコントロールノブを使用して調整することができ、エッチングの深さを微調整することができます。このエッチング処理は、直接可変温度制御を含めることによってさらに制御されます。これは、エッチング開始前にチャンバ内の温度を設定するために使用でき、異なるアプリケーションのエッチング速度を最適化するのに役立ちます。BRANSON 2000Xには、エッチング工程中にウェーハ表面にクーラントを塗布することができる専用の研磨搬送システムも含まれています。これにより、熱損傷をさらに最小限に抑えると同時に、摩耗やバリ形成を防ぐのにも役立ちます。2000Xはアルミニウム、銅、および鋼鉄を含むいろいろな産業等級材料を使用するように設計されています。さまざまなメディアサイズに対応しているため、必要に応じて簡単にエッチング操作をスケーリングできます。このマシンはデジタル表示も備えており、ユーザーはエッチングの進行状況を明確に監視することができます。エッチャーは、危険な場所にある電気機器の安全基準に従って認証およびテストされているため、安全で信頼性の高い動作を提供します。また、有害ガスへの偶発的な暴露からオペレータを保護するように設計された複数の安全機能を備えています。BRANSON 2000Xは、精密なエッチング深度と反復可能な結果を必要とするエッチングまたはアッシング操作に最適です。精密な制御と複数の安全機能を兼ね備えた信頼性の高い設計により、高精度の半導体加工に最適です。