中古 AXCELIS / FUSION Gemini GES #293654522 を販売中

AXCELIS Gemini GESは、深部サブミクロン半導体加工のために特別に設計された最先端のエッチャー/アッシャーです。これは、シリコン、ゲルマニウム、リン化インジウム（InP）、ヒ素ガリウム（GaAs）、チタン-シリコン酸化物（TiSiOX）など、さまざまな材料基板をエッチングおよびアースするための前例のない機能を提供します。Gemini GESは、1xnmから90nmまでのフルスイートのアプリケーションをサポートする汎用性の高い機器です。AXCELIS Gemini GESは、優れた温度およびガス分布安定性、ならびにサブアングストローム精密制御を提供する動的デュアルチャンバー平行プレートアーキテクチャに基づいています。2つの独立したチャンバーにより、高密度プラズマエッチングと高解像度の粒子ビームアッシングの両方が可能です。このシステムは、最大直径12インチのウェーハ処理が可能で、生産性を最大化する特許取得済みの高スループット転送機構を備えています。Gemini GESは、オペレータの安全性と環境コンプライアンスを最大化するための堅牢な安全ユニットも備えています。スマートクリーンやゼロサウスオープンソースシステムなどの機能を備え、危険物へのオペレータの暴露を継続的に監視します。AXCELIS Gemini GESは、生産部門と研究開発部門の両方のニーズを満たすように設計されており、プロセスの再現性とスループットに優れています。このマシンは、自動化されたプロセスレシピジェネレータと直感的なディスプレイを使用して、エッチングとアッシングプロセスをユーザーに導きます。ハードウェアの面では、このツールはエッチング、エッチストリップ、水分除去など、幅広いプロセスを実行することができます。これは、複数のプラズマエッチングおよびアッシングチャンバー、ならびに幅広い用途を可能にするプロセスガスおよびエッチング/ストリッパー配送システムを収容しています。Gemini GESには、プロセスエージェントと呼ばれる強力なソフトウェアスイートもあります。ウェーハパターニング、ラインエッジ粗度測定、プロセスフィードバックなどの高度な制御機能を提供します。統合されたデータロガーとエキスパートアセットは、プロセスの傾向を監視するための迅速なフィードバックとデータ管理ツールを提供します。Advanced Contact-Less Chamber Modelは、正確で再現性のあるプラズマカバレッジを保証します。一方、統合された粒子注入チャンバーは、レジストストリップの方向と精度をピンポイントで制御します。AXCELIS Gemini GESは、市場をリードするエッチャー/アッシャーであり、半導体処理において比類のない性能、効率、信頼性を提供します。それは現代のウェーハの製作のための必要な用具であり、明日の設計に影響を与える機能を提供します。