中古 APS / ADVANCED PLASMA SYSTEMS B-Series #9390804 を販売中

APS/ADVANCED PLASMA SYSTEMS Bシリーズは、マイクロエレクトロニクス、オプトエレクトロニクス、MEMSなど、幅広い用途向けに設計された先進的なエッチャー/アッシャーです。APS Bシリーズには、基板を精度と精度でエッチングするために使用されるさまざまな高度なプラズマソースが装備されています。アドバンストプラズマシステムズBシリーズは、最適なエッチングプロセスを確保するために、所望のプロセス圧力を生成および制御することができる真空チャンバーを備えています。プロセスニーズに合わせてプラズマソースのエネルギーを正確に制御できる内蔵のDC/RFジェネレータを使用して、エッチング処理をリアルタイムで監視および実行できます。Bシリーズはまた、独自のガスコントローラを提供し、ガスフローのパラメータを瞬時に設定して監視することができます。APS/ADVANCED PLASMA SYSTEMS Bシリーズは、ユーザーの安全と機器保護を確保するための安全機能を搭載しています。これらの機能には、チャンバーを安全な大気に避難させるための中央真空ポンプと、プラズマソースを自動的に非通電して偶発的な損傷を防ぐための高圧緊急停止ボタンが含まれます。APS Bシリーズはまた、プロセスまたはプロセスによって導入される潜在的な汚染を減らすために最適化された設計を備えています。これは潜在的な基質の汚染を防ぐために部屋に窒素の低レベルを注入する反汚染システムを含んでいます。アドバンストプラズマシステムズBシリーズは、最適なエッチング性能を提供するように設計されています。プラズマソースは、高精度かつ最小限のダメージで基板を微細に処理することができます。Bシリーズの柔軟性により、乾式表面処理、マグネトロンスパッタリング、変更されたグロー放電など、複数のエッチング技術を使用できます。APS/ADVANCED PLASMA SYSTEMS Bシリーズは、RIE（リアクティブイオンエッチング）とRBO（リアクティブバルクオキシドエッチング）の両方の技術を実行することができます。2つの技術を実行できるため、処理時間が短縮され、スループットが向上します。APS Bシリーズは、エッチングにおいて最も正確で一貫した結果を得るために設計された高度なエッチャー/アッシャーです。高度な機能により、プラズムを正確に制御できるだけでなく、汚染を防止するための自動安全機能も備えています。ADVANCED PLASMA SYSTEMS Bシリーズは、柔軟な設計により、幅広い用途に使用できます。さまざまなエッチングワークショップに最適なソリューションです。