中古 AMAT / APPLIED MATERIALS G5 #9314557 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALTS G5は、プラズマエッチングプロセス用の超高真空範囲で動作するように設計されたエッチャー/アッシャーです。このツールは、エッチングおよびアッシング用途にイオン化ガスを使用し、乾燥およびウェットエッチングの両方のプロセスを実行するように構成することができます。AMAT G5で使用される容量結合無線周波数（RF）技術により、シリコン、ゲルマニウム、石英、ダイヤモンドなどのさまざまな材料をエッチングすることができます。このエッチャー/アッシャーは、プロセスチャンバー、真空装置、RF発電機、電源、ガス入口、排気システム、およびコントローラで構成されています。プロセスチャンバーは漏れにくく設計されており、真空システムを使用して動作中の超高真空レベルを維持します。このツールに組み込まれたRFジェネレータは、ガス分子をイオン化することによってエッチング処理のエネルギー源として機能するRFパワーを生成します。さらに、このデバイスはRF電源を維持および制御するために電源を使用します。応用材料G5は材料の取り外し、表面のクリーニング、および血しょう助けられた沈殿を含むいろいろな適用に、使用することができます。半導体、石英、ダイヤモンドなど様々な材料をエッチングすることができます。このツールは、フッ素系CF4、 Ar/CF4、 CHF3、 Ar/Cl2などの化学物質によるエッチングをサポートし、エッチング率が高くなります。このツールのディープエッチング機能により、10nm以下の精度を実現します。最高品質のエッチングを保証するために、G5には断熱および冷却システムが組み込まれています。このツールはまた、簡単なメンテナンスのために設計されており、手動で操作または自動操作のためにプログラムすることができます。さらに、クローズドループ制御機を使用して、エッチング工程中の圧力と温度を監視します。AMAT/APPLIED MATERIALS G5は、MEMSデバイス製造、半導体デバイス製造、マイクロ流体、プロセス研究など、さまざまなプロセスに適した信頼性と汎用性の高いエッチングおよびアッシングツールです。それは異なった適用必要性を満たすために複数のサイズで利用でき、卓上モデルとしてまたは完全な用具として利用できます。このツールは、高いプロセス再現性と精度を提供し、多くの高度なエッチングおよびアッシングプロセスに最適です。