中古 AMAT / APPLIED MATERIALS DPS2AE #293603812 を販売中
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AMAT/APPLIED MATERIALS DPS2AE Etch/Asher Equipmentは、サブミクロンの精密レベルで高性能エッチングプロセスを提供するように設計された先進的なプラズマドライエッチングシステムです。それは研究および生産の適用の両方に適している信頼でき、使いやすい用具です。AMAT DPS2AE Etch/Asher Unitは、統合された平面マグネトロン、コンピュータ制御のガス質量流送ツール、および高圧デュアルチャンバー設計を備えたハイエンドプラズマドライエッチング機です。シリコン系材料、SiGe、 GaAsなど幅広い半導体材料のエッチングに最適です。また、統計的なプロセス制御もサポートしており、ユーザーはプロセスシーケンスを自動化し、品質保証を向上させることができます。アプライドマテリアルズDPS2AEエッチング/アッシャー装置は、今日の高度な半導体製造技術のエッチング要件を達成するように設計されています。デュアルチャンバー設計は、精度とバランスの取れたプロセス制御を提供し、高速スイッチングバルブは、エッチングプロセス条件に対するリアルタイムの反応を保証します。システムのin-situ制御は、ユーザー定義の仕様に従ってエッチングプロセスパラメータを最適化することもできます。DPS2AE Etch/Asher Unitは、高度なソフトウェアを使用して操作を容易にします。ユーザーインターフェイスには、詳細なパラメータエントリ、ギャップ認識、プロセスシーケンスプログラミング、データロギングが含まれています。このソフトウェアはまた、最も困難なプロセス要件の自動エッチレシピを提供します。AMAT/APPLIED MATERIALS DPS2AE Etch/Asher Machineは、非常に低い粒子生成で高いエッチング品質を達成することができます。また、優れた材料互換性を提供し、アルミニウム含有層を繰り返しエッチングすることができます。このツールは、十分なエッチングの均一性を提供し、浅い溝のエッチング、ブラックアウト/オーバーフィルエッチング、平面化など、さまざまなプロセス手順で使用できます。最後に、AMAT DPS2AE Etch/Asher Assetは優れたプロセス一貫性を提供します。プロセスの再現性、安定性、エンドポイント制御を提供し、非常に重要なエッチング作業に必要な精度と精度を提供します。また、有害廃棄物を削減し、環境に配慮したソリューションとなっています。APPLIED MATERIALS DPS2AE Etch/Asher Equipmentは、これらの機能を組み合わせることで、半導体材料のエッチングとアッシングのための信頼性の高い高性能システムです。
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