中古 AMAT / APPLIED MATERIALS DPS #9204820 を販売中
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ID: 9204820
Parts for chamber kits:
P/N Description
0040-81156 Upper chamber liner
0040-81155 Lower chamber liner
0021-26273 Cathode liner
0200-05465 Nozzle insert Al2O3
0200-04137 Lid Al2O3
0021-26274 RF Screen
0020-63668 Slit door.
AMAT/APPLIED MATERIALS DPS (Deep Silicon Etcher/Asher)は、高性能デバイスを作成するために使用される半導体製造プロセスにとって重要なツールです。シリコンウェーハに精密なパターンをカットするために必要な開発と製造技術を確実に提供できる、高スループットのマルチチャンバー加工装置です。AMAT DPSシステムは、壁、ロードロック、排気室の2つのメインチャンバーで構成されています。最初のチャンバーにはプロセスモジュールが収納され、2つのエッチングプレートがあります。このチャンバーは、典型的には塩素とフッ素含有化合物の混合物であるガスで満たされています。2番目のチャンバーには、エッチングとアッシングに必要な力を提供するためのピストンとリニアモーションステージが含まれています。ロードロックは、周囲環境がチャンバ内のガスと混合することなく、2つのチャンバ間でウェーハを移動させるために使用されます。アプライドマテリアルズDPSプラットフォームは、エッチングとアッシングという2つの主要なプロセスを備えています。エッチングは、角度付きプロファイルのシリコンウェーハに浅いポケットを作成するために使用され、アッシングはエッチング工程から残された材料を除去するために使用されます。DPSツールは、再現可能なプロセスとウェーハ全体の正確な均一性を備えた高精度エッチングおよびアッシング機能を提供します。これを実現するために、専門性の高い光学系とビームステアリング機構を活用し、各ウェハに適切な時間、エネルギー、深さが適用されるようにしています。AMAT/APPLIED MATERIALS DPSマシンの用途は多様であり、幅広い分野を網羅しています。高速・高収率の半導体製造、ディスプレイデバイス製造、薄膜デバイス製造など、さまざまな技術に使用されています。このツールは、高度なフォトマスク製造およびMEMS (Microelectromechanical Systems)製造にも使用されます。また、電子相互接続、高密度メモリ、ICパッケージ用の部品を製造するために使用されます。高度な機能セット、精度、柔軟性を備えたAMAT DPSプラットフォームは、半導体製造とデバイス製造の継続的な進歩の重要な部分です。この資産は、厳しい業界基準を満たすように設計されており、信頼性の高い運用を提供し、歩留まりとパフォーマンスを向上させます。
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