中古 AMAT / APPLIED MATERIALS DPS II AE Mesa #9292403 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS DPS II AE Mesaは、複雑な半導体材料の蒸着およびエッチング用に設計されたエッチャー/アッシャーです。最先端の装置は、パルス放電硫化物（PDS）プロセス技術と簡単な操作のための精密制御装置を備えています。このシステムは、最大9つの軌道角度で半導体表面の任意のパターンをエッチングする機能を備えており、異方性のエッチング深度と程度を正確に制御することができます。このプロセスに加えて、AMAT DPS II AE Mesaは、より大きな開口部に調整可能な角度エッチングを提供し、高アスペクト比と高スループットで最大20ミクロンの厚さまで堆積することができます。このユニットはまた、基板表面全体に均一なエッチングを提供する強力なオンボードスクラバーを備えています。つまり、すべてのデバイスレイヤーを汚染なしで同じ精度にエッチングできます。さらに、APPLIED MATERIALTS DPS II AE Mesaは、可変エッチングと調整可能なパルス時間を備えたnon-SC1エッチングモジュールを備えています。このモジュールを使用すると、より高い温度で材料を処理し、エッチングスループットを向上させることができます。さらに、このツールは高精度のリニアドライブ機構を提供し、最大96個の基板を直列に処理できます。この機能により、ダウンタイムを短縮し、オペレータの疲労を最小限に抑え、困難な材料セットを迅速かつ正確にエッチングできます。さらに、この資産は、安全な作業環境を確保するために、多層のろ過装置を備えた環境保護モデルを提供します。DPS II AE Mesaは、高いスループットと精度ですべてのデバイス層に均一なエッチングを提供できるため、半導体デバイスのエッチングに最適です。そのPDSプロセス技術、可変角度エッチング、調整可能なパルス時間、および高精度のリニアドライブ機構は、業界で最も要求の厳しい仕事に適しています。このユニットは、生産ラインの効率を最適化し、ダウンタイムとオペレータの疲労を最小限に抑えることでコストを削減することができます。