中古 AMAT / APPLIED MATERIALS DPS II AE G3 #9206067 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS DPS II AE G3は、半導体業界の現在の生産ラインのニーズを満たすように設計された高効率エッチャーおよびアッシャー装置です。このシステムは、高度なエッチングとアッシング技術を使用して、さまざまな材料で迅速かつ正確にエッチングおよびアッシャーフィルムを使用します。AMAT DPS II AE G3ユニットは、高度なエッチングおよびアッシング処理により、エッチングとアッシングの再現性が高くなります。高精度な制御装置を搭載しており、成膜時間やエッチング時間を正確に制御し、ハイエンドな材料加工を実現します。応用材料DPS II AE G3は基質からの沈殿、エッチングおよびasher薄膜に電子ビームを使用します。電子ビームは基板の表面に向けられ、堆積、エッチング、アッシャーフィルムが形成されます。これは、基板がX、 Y、 Z方向に連続的にスキャンされるため、精度と精度で行われます。DPS II AE G3は非常に柔軟でカスタマイズ可能で、他のさまざまなエッチングおよびアッシング方法を提供します。このツールはまた、ユーザーが処理される材料に応じて、各層に最適なエッチングおよびアッシングパラメータを選択することができる機能を備えています。このアセットは、ウェーハサイクル時間を短縮するためのエッチングおよびアッシングパラメータ設定を保存およびリコールする機能も提供します。また、AMAT/APPLIED MATERIALS DPS II AE G3は、開始から終了までのプロセス全体を正確に監視できる高速エンドポイント検出モデルも提供しています。この装置は、圧力、温度、および組成、ならびに沈着およびエッチングプロセスに影響を与える可能性のあるその他のパラメータを監視します。また、プロセスで発生する可能性のある欠陥を検出し、それに応じてユーザーに警告することもできます。AMAT DPS II AE G3は、さまざまな材料を処理するための信頼性が高く効率的なエッチャーおよびアッシャーシステムです。高度なエッチングとアッシング加工により、高精度、高精度、再現性、その他多彩な加工方法を提供します。この機械は特定の条件を満たすために急速にそして正確にエッチングおよびasherフィルムへの半導体の生産ラインのための理想的な解決です。