中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II Poly #9293614 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS II Polyは、マイクロトランジスタやその他の集積回路に使用される半導体部品の製造に使用されるエッチャー/アッシャーです。このタイプの機器は、材料を追加または削除するプロセスを使用して、所望の結果を形成します。ドライエッチング装置の一種で、液体エッチング剤の代わりに真空またはプラズマを使用して材料を除去します。エッチング剤は有機金属化合物またはガスである可能性があります。主にシリコン、特にリン酸塩、その他の誘電材料の加工に使用されます。AMAT Centura DPS II Polyはコンパクトで柔軟性のあるデザインで、高精度な加工に適しています。大型の4軸チャックと強力なエッチングチャンバーを搭載し、高度なプロセス制御システムにより高いスループットを実現しています。この技術は、プロセスの再現性を高め、廃棄物を削減するように設計されています。エッチプロセスの広範な監視と制御の組み合わせにより、最高品質の結果が保証されます。APPLIED MATERIALTS Centura DPS II Polyは、ウェーハからチャンバへのローディング機構、エチャントを正確かつ一貫した配信するためのパルス幅変調、およびタイトなサブミクロンエッチング精度を備えています。さらに、Centura DPS II Polyには、基板表面を均等化し、均一なエッチングを保証するように設計されたマルチゾーン容量補償ユニットがあります。また、最適なイメージングと計測性能を実現する自動スキャン光学マシンを備えています。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS II Polyはまた、密閉された環境を提供します。また、自動化された安全インターロックツールを備えており、人員やツールの安全対策を提供します。このアセットは、レシピ作成とストレージの自動化も可能で、エッチングステップ間のセットアップにかかる時間を短縮します。AMAT Centura DPS II Polyは、浅いトレンチ絶縁構造から高度な金属化層まで、幅広いエッチング用途に最適なツールです。高度なエッチング技術とプロセス制御により、高精度と再現性を必要とするアプリケーションに適しています。この高性能エッチャー/アッシャーは、高度なナノエレクトロニクス加工に適しており、現代の電子部品を製造するプロセスの重要な部分です。