中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II Metal #9274959 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS II Metalは、半導体ベースの材料を処理してさまざまなデバイス構造を作成するために特別に設計された乾式プラズマエッチャーおよびアッシャー装置です。このシステムは、最高の精度と精度で精密なエッチングとアッシング結果を生成することができます。AMAT Centura DPS II Metalは、金属層と誘電層の両方、および接触穴、ゲートスタック、パターン拡散領域などのさまざまなデバイス構造のエッチングおよびアッシング処理を完了できます。プラズマ強化化学蒸着（PECVD）と呼ばれる高度なエッチングプロセスを使用して、材料をエッチングして処理し、その後に蒸着プロセスを実行します。この高度なエッチングプロセスは、幅広いアプリケーション要件に選択性と高エッチング率を提供することができます。APPLIED MATERIALS Centura DPS II Metalは、様々な洗練されたデザイン機能により、正確かつ正確なパフォーマンスを実現します。これらの特徴は、基板のサイズや構造の広い範囲にわたって均一なエッチングを提供するように設計されている高度なプラズマ処理チャンバーを含みます。10kW RFマッチングネットワークは、オペレータがさまざまな基板およびプロセス条件にエッチング処理をチューニングできるため、ユニットのユニークな特徴です。この機械の他の高度な機能には、エッチング工程全体にわたる高度な監視を可能にする高度な光学的低減機能や、広範囲にわたって均一なエッチングを可能にする特許取得済みのリアクティブイオンエッチング（RIE）技術などがあります。Centura DPS IIには、その機能をさらに強化するための基板処理ツールも含まれています。これらのツールには、エッチングおよびアッシング工程中の汚染物質を効率的に除去する自動洗浄基板チャンバと、プロセスのエッチング速度を加速するために使用できる組み込みイオン爆撃機能が含まれます。オプションの温度制御ユニットも用意されており、オペレータは広い処理温度範囲で幅広い材料を処理することができます。Centura DPS II Metalは、優れた性能を備えた信頼性の高いエッチングおよびアッシングツールです。また、直感的なグラフィカルユーザーインターフェイスにより、エッチングプロセスを明確に理解することができます。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS II Metalは、高度な加工機能により、幅広い材料のエッチングおよびアッシングにおいて最高レベルの精度を提供することができ、高性能な半導体ベースのデバイスの加工および開発に最適なモデルです。