中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II Mesa #293619353 を販売中

ID: 293619353
Etcher.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS II Mesaは、優れたフォトリソグラフィ、エッチング、およびアッシャー機能を備えたサブミクロン性能を提供する高度なエッチャー/アッシャーです。この装置には、高精度で信頼性の高いマイクロプロセッサ制御XYZスキャナと自動ウェハハンドリング装置が装備されています。また、最先端のデバイスメーカーの厳しい要件を満たすための高度なテクノロジーパッケージも提供しています。このシステムは、自動レベリング機能と運動補正機能を備えており、最適なエッチングとアッシャー性能を維持することができます。この機械は、基板から材料を効率的に除去し、望ましい結果を得るために、アニオン、カチオン、および化学プロセスで動作します。また、低ノイズ制御ツールと微細な制御と高精度エッチングのためのマイクロエッチモジュールを備えています。アセットは、さまざまなエッチングアプリケーション用に設計されています。基材、使用プロセス、用途に応じて様々なパターンを生成することができます。このモデルの統合クリーニングソリューションと自動化されたウェーハハンドリングにより、エッチングプロセス後に製品が完全にクリーニングされます。装置の高度なデジタルイメージングおよびアライメントシステムは、正確で繰り返し可能なエッチングを提供します。デジタルイメージングシステムは、自動顕微鏡を使用して欠陥を正確に検出し、アプリケーションに合わせたエッチングソリューションを作成します。アライメントユニットは、クイックレーザースキャンとテストで完全に自動化されたビームアライメントを提供します。エッチングされた部品の再現可能なパターンと高精度を保証します。また、エッチング部品の特性を維持する高度なポストエッチング処理設備を備えています。エッチング後の高温アニール、レーザーカット、ローカライズされた急速熱処理を提供することができます。これらの機能により、歩留まりと高い製品品質が保証されます。さらに、このツールは、エッチングプロセスを監視および分析し、結果を評価するためのさまざまなin-situおよびex-situ分析ツールで設計されています。このアセットには、低消費電力の高性能エッチング用に設計されたアニオンエッチングプロセス用のイオンソースも装備されています。この機能により、エッチプロセスがよりコスト効率が高く持続可能であることが保証されます。全体として、AMAT Centura DPS II Mesaは高度なエッチャー/アッシャーで、最も要求の厳しいデバイス製造要件を満たすための高度な技術と機能を提供します。高度なデジタルイメージング、アライメント、およびポストエッチング処理機能により、ユーザーは望ましい結果と製品の一貫性を確実に達成できます。
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