中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Avatar #9375621 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Avatarは、半導体製造に使用される高度なエッチャーおよびアッシャー装置です。優れたウェーハの均一性と優れたエッチング品質を提供するように設計されており、優れたデバイス性能を実現しています。このシステムは、シングルチャンバー設計を使用して、プラズマエッチングとアッシングの正確なパターンを統合したプラズマソースで作成し、最適な結果を提供します。このプラズマソースは、イオン化されたガスの混合を生成し、基板の表面と反応してその特性を変更します。エッチングとアッシングを組み合わせることで、ウェーハ全体にわたって高い均一性を持つ1ミクロン以下の非常に細かい特徴を生み出します。AMAT Centura Avatarには、正確なパターン登録を可能にする独自のパターンジェネレータ回路も装備されています。このジェネレータは、X線リソグラフィと電子ビームリソグラフィの組み合わせを使用して、フィーチャーの配置とアライメントの精度を確保します。また、幅広い温度範囲で高速エッチングとアッシング速度とパターン精度で高いスループットを実現します。さらに、アバターは、エッチングされた表面品質を改善し、半導体デバイスのパフォーマンス指標の広い範囲を向上させる統合PerfectMatchチャンバーを備えています。傾斜ウエハローディングユニット、回転ウエハキャリア、幅広いウエハサイズに対応した圧力容器を備えています。最後に、アバターには、真空/リーク検出器や窒素/アルゴン注入などの安全機能が組み込まれており、作業者やプラズマ汚染からツールを保護します。さまざまなプロセス容器は、優れた真空能力と電力供給を提供し、すべてのシステムは、エッチング工程中の優れた圧力レギュレーションを提供するために、自動圧力設定プロファイルを備えています。APPLIED MATERIALS Centura Avatarは、非常に高精度で均一な高品質の機能を生産することができる強力なエッチングおよびアッシング資産です。その高度なパターンジェネレータ、統合されたPerfectMatchチャンバー、および洗練された安全機能により、高度な半導体製造に最適です。