中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP DPS AdvantEdge G2 Poly #9252462 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP DPS AdvantEdge G2 Polyは、半導体製造プロセスで使用するために設計された最先端のエッチャー/アッシャーです。この装置にはポリオキシドプラズマソースが装備されており、不活性ガスまたは半反応性ガスによる最適なエッチングとアッシングが可能です。アッシングは汚染物質を除去する重要なプロセスであり、エッチングは不要な材料を除去したり、シリコンやその他の半導体材料を形作るために使用されます。AMAT Centura AP DPS AdvantEdge G2 Polyには、現場のOpti-Labモニタリングシステムが搭載されており、エッチングおよびアッシュ処理に関する詳細なフィードバックを提供し、微調整とプロセス制御の改善を可能にします。ソース電力、チャンバー圧力、ファラデーシールドなどのパラメータをリアルタイムで測定し、プロセスの最適化に使用できます。APPLIED MATERIALS Centura AP AdvantEdge G2 Polyには、プロセスレシピと材料の互換性のための多数のオプションが用意されており、さまざまな材料で高スループットを実現しています。さらに、このユニットには温度制御機が装備されており、エッチングまたはアッシングプロセス中に温度とエネルギーレベルを正確に制御できます。エッチャー/アッシャーは、300ワットまでの電力レベルで、幅広い電源に対応しています。このツールは1％以内の精度を提供することができ、プラズマやその他のプロセスパラメータを正確に制御できます。統合されたエアカッフィングアセットは潜在的な汚染を排除し、RFパワーと均一性を正確に制御できます。また、エンベデッドビジョン装置やパーティクル（PTM）、エレクトロンエネルギー分散X線分光法（EDX）などの各種モニタリングツールを搭載し、エッチングおよびアッシングプロセスのさらなる制御とフィードバックを提供します。さらに、Centura AP DPS AdvantEdge G2 Polyは使いやすく、メンテナンスフリーで経済性が高く、現代の半導体材料の製造に最適です。