中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP AdvantEdge G5 Mesa T2 Poly #293802319 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP AdvantEdge G5 Mesa T2 Poly etcher/Asherは、不要な材料を正確にエッチングして除去するように設計されたハイテク精密エッチング/灰装置です。このシステムは、微細なレベルで材料をエッチングして除去することができるため、最高レベルの精度と精度を必要とするアプリケーションに最適です。このユニットは、特定のアプリケーションに応じて独立してまたは組み合わせて動作するように設計された2つの独立したチャンバーを備えています。エッチングチャンバーには、厚さ3ミクロンまでの洗浄が可能なプラズマクリーニングステーションを備えています。このステーションは、超高真空用に設計されており、直径6インチまでの基板を処理できます。高速ベークアウト機能により、サイクルタイムの短縮とセットアップの迅速化が可能です。2番目の部屋は灰の部屋です。基板表面から材料の薄い層を除去するように設計された電子ビームガンを備えています。この銃は最大250 kVで、毎秒2000nmまでの速度で材料を灰にすることができます。また、最大7500Aの安定したビームを生成し、最大20ミクロンのビームスポットサイズを生成することができます。ガンはまた、3.5mAから22mAまでのイオンビーム電流を制御することができます。2つのチャンバーに加えて、マシンはまた、高度な安全性と環境保護装置を備えています。一体型の圧力制御ツールを備えており、チャンバーの突然の圧力変化を防ぎ、機械や基板の損傷を防ぎます。アセットが問題を検出したときにトリガーする可聴アラームを備えており、オペレータが迅速に行動を起こすことができます。また、1次電源が失われた場合、最大30分間の動作を維持するバックアップ電源も備えています。AMAT Centura AP AdvantEdge G5 Mesa T2ポリエッチャー/アッシャーは、高い精度と精度を必要とするさまざまなアプリケーションに最適なソリューションです。これは、高度な安全性と環境保護装置だけでなく、ユーザーフレンドリーなグラフィカルインターフェイスを備えており、迅速かつ簡単なセットアップと操作を可能にします。また、不要な素材を高精度にエッチング・除去できるため、高精度を必要とする用途に最適です。