中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP AdvantEdge G5 Mesa T2 Poly #293802182 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP AdvantEdge G5 Mesa T2 Polyは、エッチャー/アッシャー、または最適な材料エッチングとアッシング性能を実現するために設計された精密プラズマエッチング/アッシュ機です。ナノメートルレベルの精度で、プロファイル形状とフィーチャーサイズを正確に制御することができます。これにより、0。2 µmという小さな特徴の正確なエッチングが可能になり、精密なアッシング結果も得られます。AMAT Centura AP AdvantEdge G5 Mesa T2 Polyは、ハイエネルギーイオンと粒子を使用して基板から材料の薄い層を除去するドライエッチング/灰マシンです。このプロセスは、プラズマガスを大量に発生させ、機械でさらに精製することで、最適なエッチングとアッシング性能を実現します。CenturaのQuad Plasma Generation （QPG）システムは、エッチングとアッシングのプロセスを最適な速度、精度、再現性で確実に行うのに役立ちます。APPLIED MATERIALS Centura AP AdvantEdge G5 Mesa T2 Polyは、その制御オプションにより、汎用性の高いエッチャー/アッシャーです。ニッケル、銅、アルミニウム、ポリマーなど様々な素材をエッチング・アッシングすることができます。また、操作条件を変更することなく、フィーチャーのプロファイルと形状を変更することもできます。これにより、エッチングやアッシング時の柔軟性が大幅に向上します。機械にまたより速く、より精密なエッチングおよびashingを可能にするオートメーションの選択の範囲があります。自動版と半自動版があり、繰り返し可能な結果でより速い生産サイクルを可能にします。さらに、オブジェクト検出、画像認識、リアルタイムのステータス更新などのソフトウェア機能により、プロセスの理解が向上し、プロセス制御が向上します。Centura AP AdvantEdge G5 Mesa T2 Polyは堅牢な設計で、信頼性と耐久性に優れています。密閉された設計により、漏れを最小限に抑え、エッチング/アッシングプロセスの汚染を防ぎます。さらに、その部品と部品は高品質であり、持続するために作られています。これにより、大量かつ高精度のエッチング/アッシング処理に最適です。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP AdvantEdge G5 Mesa T2 Polyは、正確で正確な結果を出すことができる信頼性が高く、効率的なエッチャー/アッシャーです。堅牢な設計と自動化されたコントロールにより、信頼性と再現性が保証されます。これにより、ハイテク半導体産業のアプリケーションに最適です。