中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centris #9394694 を販売中

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ID: 9394694
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2018
SYM3 Etcher, 12" Controller (2) External racks For main AC, system control, power supplies Front loader non-functional (6) Chambers: Chamber A1 Chamber A2 Chamber B1 Chamber B2 Chamber C1 Chamber C2 Power supply 2018 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Centrisは、高精度のウェーハ処理を提供するように設計されたエッチャーおよびアッシャーです。エッチャーは、オーナーシップの低コストでさまざまな種類の材料のクリーンで反復可能な処理が可能です。AKT Centris Etcherは、さまざまな高度なプロセス制御技術と材料固有のエッチングプロファイルを使用して、毎回正確なエッチングを行います。この装置は、限られたスペースで最大限に活用できる小さなフォームファクタを備えており、異なるサイズの複数のウェーハを処理できます。AMAT Centrisは、操作と監視が簡単な単一の統合制御システムを備えています。コントローラーは手動および自動精密部屋の位置、統合された分離の掛け金、視覚環境の監視、統合された温度および圧力制御および単位状態の監視のためのグラフィックが付いている実時間プロセス監視を結合します。これにより、精密なプロセスおよび機械制御およびセグメント化されたプロセスチャンバーおよび処理性能を最適化するデュアルサーマルゾーンチャンバーが可能になります。このツールにはAdvanced Plasma Tracking (APT)も装備されており、独自の3軸座標アセットを使用してエッチングおよびアッシングプロセスの正確な位置を監視します。これにより、エッチングを基板に正確に照準することができ、エッチング中のターゲットエッジプロファイルの放浪を排除します。このモデルには、レジストレイヤプロファイルデータを最適化し、ターゲットとする基板エッチング層にマッチするPC制御ソースエッチング機器であるExactraddも搭載されています。さらに、APPLIED MATERIALS Centris Etcherは、プロセスパターンを正確に実行できるように、ターゲットプロファイルの最適化を強化しました。完全に封入されたオールメタル構造により、高い信頼性と低メンテナンスが可能です。カスケードフィルトレーションを備えたデュアルエンクロージャにより、ロングランでのバッチ処理でも、汚染のない高品質なプロセス結果が得られます。全体として、高精度のエッチングとアッシングを実現し、品質の再現性と半導体ウェーハ加工の安定した加工を実現します。
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