中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centris DPS MESA #293779107 を販売中
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AMAT/APPLIED MATERIALS Centris DPS MESAは、重要な半導体エッチング/アッシングプロセスに使用されるエッチャー/アッシャーです。精度、再現性、セキュリティに関するグローバルな要件を満たすオートメーション対応ツールであり、多船およびマルチゾーンの運用をサポートします。AMAT Centris DPS MESAは、高度なOzone Delivery Equipment （ODS）およびDual-Plasma Self-Aligning （DPSA）技術を使用して、半導体ウェーハ上で最も複雑な機能を正確にエッチングおよびアッシングできます。DPS MESAは、プロセス全体で最適な熱プロファイルを達成するために高度な温度制御を備えており、自動化とトレーサビリティのための独自のオプションは、スループットの向上とファブ使用率の最大化に役立ちます。このツールの自動化されたプロセス制御システムは、プロセスの堅牢な監視と制御を可能にし、エッチング速度を高速化し、プロセス精度を向上させます。ガスの急速なスイッチングのための高度なガスキャビネット、ならびに統合されたダイレクトドライブ液体コントローラは、一貫したエッチング結果を提供し、プロセスのドリフトを最小限に抑えます。DPSA機能により、お客様のアプリケーションに合わせて正確にカスタマイズできる複合エッチング/アッシュ操作も可能になります。このユニットの高真空機能により、クリーンで反復可能なプロセスが保証されます。統合された高度の避難機械はエッチング/灰プロセスの間に作成されるガスおよび煙のほとんどを取除き、強力な荒くなることおよび拡散ポンプはプロセス周期時間を減らします。このツールはクラスタツールに統合されるように設計されており、複数のウェーハを同時に処理できます。また、オプションのプリマッピングアセットにより、最適なサンプル配置を可能にし、スループットを高速化します。このモデルの統合発電機は、ユニットのリモート制御を可能にし、その高度な安全機能は、動作中にユーザーを保護します。全体として、APPLIED MATERIALTS Centris DPS MESAは、半導体ファブに効率的で汎用性の高いエッチングおよびアッシングソリューションを提供します。その先進技術、一流の機器の安全性とオートメーション、高い生産性は業界でも類を見ないため、あらゆる半導体アプリケーションに最適です。
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