中古 AMAT / APPLIED MATERIALS 8330 #9076176 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS 8330 Etch/Asherは、半導体アプリケーションにおける複数層のエッチングおよびアッシング用に設計された、コンパクトで費用対効果の高い高収率の機械です。エッチングチャンバーとアッシングチャンバーからなるデュアルチャンバーシステムで、ユーザーは単一のマシンでエッチングとアッシング操作を行うことができます。AMAT 8330は、大量生産のスループットを最大化するように設計されており、1時間あたり最大150個のウェーハを処理できます。エッチャー/アッシャーは、高度で精密なRFプラズマ技術を使用してプロセスガスをイオン化し、ウェーハ表面に均等に分布する体積RFプラズマを作成します。この均一で一貫したチューニング可能なプロセスガス波形により、精密なエッチング速度と優れたプロセス均一性を実現します。アプライドマテリアルズ8330は、エッチングおよびアッシング操作を1台のマシンに統合し、個別のエッチングおよびアッシング装置の必要性を排除し、大量のウェハ製造作業にシングルソースソリューションを提供します。8330は、高度なプログラミング、プロセス監視、およびシステムメンテナンス機能を備えています。高度なHMI （Human Machine Interface）により、タッチスクリーンまたはマウス/キーボードを介してプロセスパラメータを簡単に設定、監視、制御できます。さらに、このマシンには、ユーザーが高度な生産作業のために数百のレシピをプログラム、保存、監視できる複数のモードと機能が含まれています。高度なプロセスモニタリング機能により、プロセス条件をリアルタイムで監視することができ、プロセス制御を正確に行うことができます。また、パフォーマンスを最適化するためのパラメータのトラブルシューティングや調整を簡単に行うことができます。Etch/Asherは最大8つのプロセスガスの容量を備えており、最大圧力能力は350mTorrです。このシステムにはアクティブクランプ6インチウェハロックが装備されており、プロセスの再現性、基板から基板までの均一性、および優れた歩留まりを保証します。AMAT/APPLIED MATERIALS 8330は汎用性の高い大量生産能力を備えており、ドライエッチング、半導体デバイス製造、誘電加工、ウェハボンディングなどの幅広いプロセス工程に最適です。非常に効率的な機械で、床面積を最小限に抑えたコンパクトな設計で、メンテナンス要件が低く、ユーザーフレンドリーなインターフェイスにより、多くの生産作業に最適です。