中古 AMAT / APPLIED MATERIALS 8330 #9070196 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS 8330エッチャーは、低温で動作するガスクラスターイオンビーム（GCIB）ベースのエッチングシステムです。この先進的な装置は、ハイスループットプラズマエッチングプロセス用に特別に設計されており、エッチング構成を優れた制御により、さまざまなアプリケーションを可能にします。他のエッチング技術と比較して、GCIBはエッジプロファイル制御の改善、充電の削減、清潔度の向上、均一性の向上、損傷の軽減、エッチングの効率化を実現しています。AMAT 8330エッチャーには400mmプロセスチャンバーがあり、プロセス負荷とアンロードを容易にするための自動マクロリフトが装備されています。その1300ワットのRFパワーは、エッチング時に高いスループットと正確なプロファイル制御を保証します。エッチャーは、様々な反応イオンエッチング（RIE）プロセスに酸素、塩素、CF4、 CHF3などの幅広いガスを利用しています。プロセスパラメータは、ガス濃度、圧力、流量、RF電力、バイアス電圧などの精度で調整できます。汎用性の高いプロセス機能により、アプライドマテリアルズ8330エッチャーを使用して、シリコン、ケイ化物、ポリイミドなどのさまざまな材料をエッチングできます。この最先端の機器は、チップインターコネクトや複雑な集積回路などの半導体製造に最適です。また、結晶SiGe、 III-V化合物、SiNx、窒化物系デバイスなどの先端材料のエッチングにも適しています。8330エッチャーは、プロセスの簡単な監視と調整を可能にするユーザーフレンドリーなグラフィカルユーザーインターフェイスが付属しています。また、プロセス実行の間に高度な清潔性の維持を可能にするin-situクリーニングシステムも含まれています。これにより、ダウンタイムが短縮され、プロセスの安定性と再現性が向上します。エッチャーには、エッチング処理のリアルタイム分析を提供するための予測監視機能も装備されており、スムーズな操作と最大限のユーザーの利便性を確保しています。結論として、AMAT/APPLIED MATERIALS 8330エッチャーは、半導体技術産業のエッチングプロセス用に設計された先進的な装置です。この低温エッチャーは、幅広い材料を処理する際に優れた性能、再現性、効率を提供します。ユーザーフレンドリーなインターフェイス、現場洗浄システム、予測監視機能により、スムーズな操作と最適な再現性を実現します。したがって、AMAT 8330エッチャーは、様々なプラズマエッチングプロセスに効率的なソリューションを提供します。