中古 AMAT / APPLIED MATERIALS 8310 #293619543 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS 8310エッチャー/アッシャーは、半導体メーカーが使用する高度なエッチング/アッシングツールです。効果的なプロセス結果を得ることができるリアクティブイオンエッチング（RIE）装置です。高度な温度補償やインテリジェントソフトウェアアルゴリズムなど、最新の技術を活用して反応速度を制御し、効果的なプロセスを確保します。AMAT 8310エッチャー/アッシャーシステムは、いくつかのコンポーネントで構成されています。これには、誘導結合プラズマ（ICP）ソース、処理エンクロージャ、輸送テーブル、真空チャンバーが含まれます。ICPsourceは、半導体材料の反応イオンエッチングのためのプラズマ充填反応チャンバを生成するために、高周波応用電圧と強力な磁場を採用しています。この処理エンクロージャは、半導体基板の自動ロード、アンロード、および処理のための安全な環境を提供します。輸送テーブルは、エッチング/アッシング工程中の基板の正確なアライメントを保証します。最後に、真空チャンバを使用して、制御されたエッチングおよびアッシングプロセスに必要なプロセス圧力を達成します。アプライドマテリアルズ8310エッチャー/アッシャーユニットは、高度な温度制御技術を採用し、独自の大気制御装置（ACS）を使用しています。これにより、プロセスを均一に冷却し、ホットスポットを回避し、プロセス制御と再現性を向上させます。さらに、ACSはウェーハ表面の酸素や他のガスの量を減らすのに役立ち、プロセスの性能と信頼性に悪影響を及ぼす可能性があります。8310エッチャー/アッシャーツールは、アプリケーションの特定の要件に合わせて調整できる優れたエッチング/アッシュレシピを提供します。このアセットは、高精度なプロセス制御機能により、再現性の高い結果を提供し、材料の品質を保証することができます。要約すると、AMAT/APPLIED MATERIALS 8310エッチャー/アッシャーモデルは、最新の技術進歩と堅牢で信頼性の高いコンポーネントを組み合わせた先進的な機器です。優れたプロセス制御と再現性、特定のニーズに合わせた優れたEtch/Ashレシピを提供します。これらの要因により、AMAT 8310エッチャー/アッシャーシステムは、エッチング/アッシングプロセスで優れた結果を達成しようとする半導体メーカーにとって理想的な選択肢となります。