中古 AMAT / APPLIED MATERIALS 8300 #101449 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS 8300 Asher/Etcherは、シリカ、石英、シリコン、ゲルマニウムおよびその他の半導体を含む幅広い材料のエッチングまたはアッシング用に設計された、2段階の高スループット、リソグラフィ対応の熱化学処理装置です。このシステムは、高速（1時間あたり90以上のウェーハ）で、高い均一性で動作することができます。AMAT 8300は、高真空、マルチステップアッシャープラットフォーム、高性能、低真空アッシャー/エッチングチャンバーを備えており、プロセスのスループットを容易にします。高真空マシンは最大1.2E-7トーラーの圧力を達成することができ、プロセス全体の均一性を可能にします。スルーウェーハ処理チャンバは、低真空操作に最適化されています。高スループットエッチング/アッシングチャンバーには、プロセスガス選択、ガスフローコントローラ、温度コントローラが含まれます。これらのすべてのコンポーネントは、プロセスを最適に制御するために敏感に温度監視および/または処理されます。最終的には、優れたエッジ定義、低いシート抵抗、およびさまざまなタイプのアッシャーまたはエッチャーに見られる典型的な改良による最小限のローディング効果が得られます。アプライドマテリアルズ8300は、高貴なガスを搭載した特許取得済みの無電極プラズマ源を備えており、プロセスパラメータの高い予測可能性を提供します。これにより、プロセス全体の均一性が保証されます。このツールには、上流のガスボックスとガス混合アセットも装備されており、温度制御とともにプロセスガスを正確かつ正確に測定および監視することができます。8300は優れたスループットのために設計されています。高真空モデルでは、1時間あたり最大90個のウェーハを処理でき、低真空装置では1時間あたり45個のウェーハを処理できます。これは、さまざまなサイズと厚さの多数のウェーハを迅速に処理できることを意味します。AMAT/APPLIED MATERIALS 8300も使いやすく、直感的なユーザーインターフェイス（UI）により、プロセスを簡単に設定および実行できます。UIには、レシピライブラリ、プロセスモニター、履歴ログなどの高度なツールが含まれています。これにより、ユーザーはプロセスのパフォーマンスをすばやく分析し、それに応じて調整することができます。全体として、AMAT 8300 Asher/Etcherは、高度なプロセスのための多種多様な材料のエッチング/アッシングのための非常に堅牢で信頼性の高いシステムです。高いスループットと均一性を実現するように設計されており、プロセスを迅速かつ簡単に設定および実行するためのユーザーフレンドリーなインターフェイスを提供します。アプライドマテリアルズ8300は、優れたプロセス結果と優れた柔軟性と拡張性を提供します。