中古 AMAT / APPLIED MATERIALS 8110 #9068915 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS 8110 Asher/Etcherは、汎用性と信頼性の高い自動プラズマエッチングおよびアッシング装置です。RDL （Redistribution Layer）、 TSV （Through-Silicon Via）、 MEMS （Micro-electro-mechanical system）、および高度なパッケージングなど、さまざまな半導体および高度なパッケージングプロセスで使用できるように設計されています。これは、高性能と精度のおかげで、研究開発と生産プロセスの両方に最適です。AMAT 8110 Asher/Etcherは、外部ロードロックチャンバーとハイスループットクォーツチューブ転送チャンバーを備えています。これにより、コンタミネーションを最小限に抑えて高速処理が可能です。高度なオートメーションコントロールで設計されており、直感的なユーザーインターフェイスを備えているため、事前設定されたパラメータのライブラリからカスタムレシピを作成および実行できます。アプライドマテリアルズ8110アッシャー/エッチャーには高度な制御システムが装備されており、-5°C〜+120°Cの広い動作温度範囲があり、より高いスループットを達成し、より大きなウェーハを処理することができます。また、生産効率を向上させるいくつかのユニークな機能を備えています。これらには、事前に選択された処理が含まれており、ユーザーは同じプロセス実行に適用できるプロセスパラメータのグループを選択できます。そして、ユーザーはリアルタイムで即座にパラメータを調整することができます。8110 Asher/Etcherは、プロセス収率を最適化するための優れた温度勾配制御を備えた高熱均一性も備えています。内蔵のリアルタイムプロファイルモニターと多種多様なin-situおよびex-situ診断ツールを備えています。また、予期しない状況が発生したときにオペレータに警告する自動アラームユニットも備えています。AMAT/APPLIED MATERIALS 8110 Asher/Etcherは、アルゴン、窒素、水素を含む幅広いガスと互換性があり、高速エッチングとアッシングのために最大6-MHz動作で構成することができます。また、最適なウェーハ制御のための真空・圧力制御装置を内蔵しています。全体として、AMAT 8110 Asher/Etcherは、半導体および高度なパッケージングプロセス向けに高性能でユーザーフレンドリーなエッチングおよびアッシングソリューションを提供し、高い歩留まりと生産性を実現します。それは生産および研究開発の適用のための信頼でき、費用効果が大きい選択です。