中古 AMAT / APPLIED MATERIALS 0040-77771 #293596913 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS 0040-77771は、低温ドライエッチングおよびアッシング用に設計された最先端のエッチャーまたはアッシャーで、高度なパターン転送プロセスを素晴らしい品質で提供します。この高性能エッチャーは、最高のレートコントロールパラメータ精度と精度制御を提供し、重要なプロセスステップを実現します。それは非常に堅い特徴のプロフィール制御および低い欠陥の密度レベルを最もよい質の基質に与えるように設計されています。このエッチャーは、窒化ケイ素だけでなく、ポリシリコン、二酸化ケイ素、ポリイミド、Al/Cu、 Al/Siなどの幅広い材料に適しています。これは、浅いエッチング、深いエッチング、深い反応性イオンエッチング（DRIE）、プラズマエッチング、イオンミリング、イオンビームエッチングをカバーする強力なウェハレベルのプロセスを提供します。エッチャー独自の高度な調整により、プルームの持続時間とデューティサイクルを正確に制御し、浅い機能から非常に深い機能まで、さまざまなパターンを可能にし、エッチングとアッシングプロセスを切り替えることができます。AMAT 0040-77771は、エッチングチャンバー内のイオン化が完全化され、エッチングガス中のイオン移動性が高いため、従来のエッチング装置よりも高品質な結果を得ることができます。応用材料0040-77771のエッチャーはまた汚染から優秀な保護を提供する調節可能な真空の部屋が付いている信頼性が高い部品から組み立てられます。それに長い操業の間に正確な温度調整および信頼性を保障する統合された水冷システムが、あります。ヒーターもシステムに組み込まれており、熱勾配を低減するのに役立ちます。エッチャーには詳細なレシピ管理システムもあり、オペレータは後で使用するためのプロセスレシピを保存、リコール、編集することができます。これにより、さまざまなエッチングおよびアッシング要件のパラメータを素早く簡単に調整でき、遅延や無駄な労力を防ぎます。このエッチャーは、比類のない精度と制御だけでなく、幅広い機能を提供するため、現代のエッチングとアッシング機械に大きな追加です。0040-77771は、最新の半導体製造の最先端の要件に信頼性が高く、高速で品質の高いソリューションを提供するように設計されています。それは、彼らのパターンが最高品質で転送されていることを確認したい現代のプロセスエンジニアリングラボの不可欠な部分です。