中古 ALPHA PLASMA ASTRO-CA100 #293774362 を販売中

ALPHA PLASMA ASTRO-CA100は、半導体製造および研究用途における精密表面処理用に設計された高性能エッチャー/アッシャツールです。この先進的な装置は、プラズマ技術を使用して、高度に制御された均一なエッチング/アッシングプロセスを提供します。ASTRO-CA100は汎用性が高くユーザーフレンドリーなデザインで、幅広い材料加工ニーズに適しています。システムのコンパクトなフットプリントと直感的なインターフェイスにより、操作とメンテナンスの容易さが向上し、オペレータはダウンタイムを最小限に抑えてプロセス開発と生産タスクを効率的に実行できます。ユニットの中心には高出力のRFプラズマ発生器があり、異なる材料タイプとプロセス要件に対応するために安定した調整可能なプラズマ密度を提供することができます。プラズマ源は、プラズマ化学とエッチング/灰の選択性を調整するためのプロセスガス、流量、混合物を正確に制御することができる洗練されたガス供給機によって補完されています。工具のチャンバーは高純度材料で構成され、汚染を最小限に抑え、一貫したプロセス結果を保証します。温度制御チャックは、加工時の熱安定性を提供します。これは、エッチング/灰の深さと基板表面全体のプロファイルの均一性を達成するために重要です。このチャックにより、基板加熱または冷却により、特定のアプリケーションのプロセス条件を最適化することもできます。ALPHA PLASMA ASTRO-CA100は、フォトレジスト除去、誘電エッチング、酸化物除去、材料改質など、さまざまなエッチングおよびアッシング用途に対応するさまざまなプロセスレシピとパラメータ設定を提供します。ユーザーは、圧力、電力、ガス組成、処理時間などのプロセス条件を簡単にカスタマイズして、所望のエッチング/灰レートと材料除去選択性を達成できます。アセットには、プロセスの進捗状況をリアルタイムで監視し、目的のエンドポイントに到達したときにエッチング/アッシュステップを正確に終了する高度なエンドポイント検出機能が装備されています。この機能は、正確なプロセス制御を保証し、過剰エッチングを最小限に抑え、デバイスの損傷や歩留まりの低下につながる可能性があります。精度と制御機能に加えて、ASTRO-CA100はユーザーの安全性と環境の持続可能性を重視しています。このモデルは、安全インターロック、ガススクラビングメカニズム、および排気管理システムを内蔵して設計されており、危険物への暴露を防ぎ、環境への排出を最小限に抑えます。ALPHA PLASMA ASTRO-CA100は、半導体および研究環境における高精度プラズマエッチングおよびアッシング用途の最先端ソリューションです。革新的な設計、信頼性の高いパフォーマンス、およびユーザー中心の機能を備えたこの機器は、高度なデバイス製造プロセスで高品質の結果を達成するために不可欠なツールです。