中古 ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER AMS 4200 #9304661 を販売中
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販売された
ID: 9304661
ウェーハサイズ: 6"
ヴィンテージ: 2007
Etcher, 6"
(2) Dry etch chambers
With (1) E-chuck
BROOKS AUTOMATION Handler
(4) Chambers
Load / Unload station
(4) Pumps
Control units
(2) Chillers
PWD Cabinet / Scrubber
(3) Computer consoles
(2) LN2 Tanks
Process chamber 1:
Silicon oxide (RGV Dielectric) etch process module
RIE Source reactor
Substrate holder with E-Chuck, 6"
Bias 600 W LF
Reactor pump: ADP 122H and ATH 1600M on DN40 Throttle valve
Gas lines: CF4, O2, CHF3, He
Process chamber 2:
Silicon etch process module
ICP Plasma source
Cryo temperature process
Cryogenic substrate holder
With mechanical clamping chuck, 6"
Source: 3 kW RF
Auto matching network
Laser view port adapter
Pumping line to pump down the substrate holder
He backside cooling
Bias 300 W RF
LN2 Controlled cooling
Dewar LN2 tank
PM ADP 122 Reactor pump
ATH 1600M Maglev turbo pump
DN200 Heated throttle
Cold trap
Gas lines: SF6, O2, O2, N2
Handling platform:
BROOKS AUTOMATION MX 600 Platform with MAG 7 robot
6-Sided platform:
(2) Process modules
(2) Cassette modules
(2) BROOKS AUTOMATION VCE6 Cassette modules
Electrical cabinet
RF Generator
PLC
Breaker
Control module
End point detection
Accessories
Etch module with gas cabinet: CF4, O2, CHF3, He, Ar, N2
Etch module with gas cabinet: SF6,O2, O2,N2
BROOKS MX 600 Handler platform
(2) Control cabinets
Power distribution cabinet
(2) ADP122H Fore pumps
(2) A100L Fore pumps
(2) Chillers
Transformer, 125 KVA
GUI, (3) Consoles
Gas abatement, centrotherm
Manuals
Cables
Hoses
Computer
Endpoint detectors
2007 vintage.
ALCATEL/ADIXEN/PFEIFFER AMS 4200エッチャー/アッシャーは、幅広い薄膜材料用の精密プラズマエッチングおよびアッシング装置です。高品質の幾何学的形状、方向パターン、正確な構造を製造するために使用されます。スパッタリング、エッチング、クリーニングプロセスに最適です。このユニットは、今日のエッチングとクリーニングのニーズに合わせてカスタマイズされた非常にコンパクトなプロファイルと幅広い革新的な機能を備えています。その高度なエッチング技術により、精密で再現性のあるプラズマエッチングと非常に微細な形状を実現することができるアッシングプロセスが可能になります。この機械は処理時間が非常に短く、また工具の自動制御により優れたプロセス信頼性を提供します。このアセットは、薄膜材料のスパッタリング、エッチング、洗浄に必要な精度と再現性に特化して設計されています。同位体エッチングから選択的エッチングまで、幅広いクリーニングオプションがあります。高度なイオンビーム蒸着およびパルス処理システムにより、非常に微細で一貫したエッチング/灰パターンを生成できます。そのオープンチャンバー設計は、プロセスの無制限のビューを提供すると同時に、エッチング/アッシングプロセス全体で高いレベルの均一性を保証する一定の環境を提供します。このモデルはまた、柔軟性とカスタマイズのためのオプションの広い配列を誇っています。それに基質に渡される粒子の効率の最大化を可能にする調節可能な流れのノズルがあります。また、この装置は完全に自動化されたプロセスコントローラを備えており、エッチング/アッシュプロセス中に高い再現性と一貫性を保証します。このプロセスコントローラを使用すると、プラズマエッチングとアッシングのレシピを特定の材料にカスタマイズでき、可能な限り最高レベルのエッチングとアッシング効率を保証できます。ADIXEN AMS 4200 etcher/asherはユーザーに利点の広い範囲を提供できる高度で、信頼できるエッチングおよびashingシステムです。エッチングおよびアッシングプロセスの精度と再現性を向上させると同時に、非常に短いプロセス時間を提供します。オープンチャンバー設計とプロセスコントローラにより、柔軟性とカスタマイズ性が向上し、ユーザーはエッチングとアッシングプロセスに最適な結果を得ることができます。
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