中古 ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER AMS 200 #9229760 を販売中
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ALCATEL/ADIXEN/PFEIFFER AMS 200は、高精度で知られる超高真空エッチャー/アッシャーです。この装置は、多くの場合、さまざまな業界や研究アプリケーションで複雑なエッチングやアッシングのプロセスに使用されます。ADIXEN AMS 200の原子力顕微鏡は非常に高解像度であり、サンプルの検索やイメージングに使用できます。高解像度のため、ICシステムからナノ粒子まで幅広い用途に適しています。さらに、スパッタイオン源は効率的にイオンビームを制御して、サンプル表面に完全な構造を作り出すことができます。ALCATEL AMS 200のサンプル処理は、高い柔軟性と再現性が特徴です。温度およびプロセス圧力はプロセス圧力かサンプルのサイズにもかかわらず正確に調節され、保証することができます。表面特性は、試料表面の酸化を可能にするin-situプラズマ処理を使用することによって達成されます。これにより、表面汚染のリスクを低減し、エッチングおよびアッシング工程の接着性を向上させます。AMS 200のエッチング工程は、酸化物質量のガス状エッチングプルームを使用しており、ウェーハ表面に繊細かつ最小限のダメージを与えることができます。エッチングは高真空の下で行われ、試料表面から噴出したイオンは反応性の高い酸素種に到達する速度が速い。これにより、より均一なエッチングが可能になり、サンプル材料の損傷が最小限に抑えられます。同様に、PFEIFFER AMS 200のアッシング処理も高真空で行われます。活性酸素種と高いプロセス圧力の組み合わせを利用して、アッシング処理を最適化し、表面から材料を素早く効率的に除去し、損傷を最小限に抑えます。ALCATEL/ADIXEN/PFEIFFER AMS 200は、洗練された温度制御システムも備えています。これにより、ユーザーはプロセスチャンバーまたは特定のモジュールまたは部品の温度を調整できます。温度はプロセス圧力が異なる場合でも一定に保たれます。結論として、ADIXEN AMS 200は、超高真空エッチングとアッシングを必要とするプロセスに最適なソリューションです。原子力顕微鏡やその場でのプラズマ治療などの先端技術の組み合わせにより、一貫した正確な結果が得られます。さらに、温度制御システムはサンプル材料への損傷を最小限に抑え、さまざまな用途に最適です。
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