中古 ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER 602E #9232742 を販売中

ID: 9232742
ウェーハサイズ: 6"
Deep silicon etcher, 6" Cassette vacuum load lock Low pressure plasma source Temperature controlled cryo chuck Substrate holder: Θ150 mm (2) Programmable Logic Controllers (PLC) (2) Chamber etch systems With handler Process module: Transfer chamber Automated robotic arm Computer interface system (5) Sub assemblies: Process chamber Substrate holder Plasma source Power supplies Pressure control Transfer module: Transfer chamber Load lock chamber Pressure control Automatic loading and unloading substrates With robotic arm, load lock and pumping package System control module: Real time process control and recipe management RF Power control Automatic substrate bias voltage control Pump and valve control Process gas flow control Automatic batch processing Manual control of all I/O signal.
ALCATEL/ADIXEN/PFEIFFER 602E Etcher/Asherは、多種多様な材料の表面に高精度のパターンを作成するために使用される高度な工業用具です。このツールは、非常に高速で高解像度の結果を生成することができます。その複数の構成は、ウェットとドライエッチング、地形、同位体およびフォトレジストエッチングの両方を可能にします。ADIXEN 602Eの主な特徴は、デジタル、高解像度のプログラミングおよび制御機器であり、簡単なパターン調整を可能にし、柔軟性が高く、異なるエッチングプロセスとさまざまなアプリケーションを可能にします。デジタル化されたコンピュータ化されたシステムには、自動校正および自動補正メカニズムも含まれており、時間の経過とともに一貫した結果が得られます。有効性に関しては、アルカテル602Eは45度の面取りで最大0。2ミクロンの精度で動作するように設計されています。この高精度により、複雑な設計の詳細を正確かつ現実的にすることができます。単位の力はまた正確さを犠牲にすることなくエッチングプロセスがより速いことを保障し、短時間でいろいろなパターンを作り出します。PFEIFFER 602Eは、複数の安全性と環境機能も提供しています。機械は水しぶきから保護され、ツールの内部を乾燥させます。また、ダストエミッションやノイズを最小限に抑える設計となっており、産業現場でも使用可能です。さらに、ユーザーフレンドリーなインターフェースとソフトウェアが付属しており、モデルを簡単に操作できます。602E Etcher/Asherは、精密部品マーキング、地形、パターン、エッチング/マーキング、およびリソグラフィに最適なツールです。その機能により、課題にかかわらず、正確で高解像度の結果を提供することができます。高度に構成可能なこの装置は、パターンサイズ、加工されている材料の種類、パターンの複雑さなど、柔軟性を提供します。これらのすべての機能が連携して、ユーザーに最適化された高効率なプロセスを提供し、迅速かつ正確な結果を保証します。
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