中古 ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER 601E #9267161 を販売中

ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER 601E
ID: 9267161
Deep Reactive Ion Etcher (DRIE).
ALCATEL/ADIXEN/PFEIFFER 601Eは、シリコン表面、金属、半導体材料のエッチング用に設計された先進的なエッチング/アセンブリ機器です。高速・高精度・高スループット機能を搭載し、研究開発、先進的な製品開発、高品質な製造プロセスに最適です。ADIXEN 601Eは、主に半導体デバイスのエッチングに使用され、3段階のプロセスを使用します。最初のステップでは、ウエハをエッチング室に入れ、高強度プラズマにさらします。プラズマは、不要な表面層を除去するために、最大200°Cの温度に加熱されます。2番目のステップでは、エッチングプロセスが始まり、テーラードエッチングプロセスを使用して所望の領域を所望のパターンや形状にエッチングします。最後に、第3ステップの間に、ウエハーは洗浄され、残りのプロダクトの取り外しを保障するためにきれいになります。ALCATEL 601Eは、最適なパフォーマンスを提供するために、幅広い先進技術を備えています。高精度エッチング制御装置は、高度なソフトウェアを使用してエッチング処理の精度を確保します。この機械は、温度制御、プラズマ電力制御、およびエッチング用のイオンビームパラメータを含む完全なプロセス制御を備えています。さらに、エッチャーにはハイスループットシステムが装備されており、幅広いウェハサイズの高速エッチングが可能です。601Eは、エッチング処理中にウェーハが損傷しないようにする自動シャットダウンユニットなど、洗練された安全機能を備えています。その高度な消火装置は、エッチング処理中に余分なレベルの安心を提供します。PFEIFFER 601Eは、金属、半導体、シリコンなど、さまざまな材料の欠陥の少ない高精度パターンをエッチングすることができます。エッチング結果は優れた均一性を有し、高品質で高精度な部品の製造を可能にします。エッチャーは使いやすく、信頼性が高いため、幅広い研究開発プロセスに最適です。
まだレビューはありません