中古 TECHNICAL INSTRUMENT COMPANY KMS 310 #9117073 を販売中

TECHNICAL INSTRUMENT COMPANY KMS 310
ID: 9117073
Ellipsometer.
TECHNICAL INSTRUMENT COMPANY KMS 310は、半導体計測およびラボワークの分野における研究開発用途向けに設計された、高度な0。25 nm波長楕円計です。薄膜の厚さ、層構成、屈折率、その他の光学パラメータを測定する際に、高い精度と再現性を提供するように設計されています。KMS 310は、最高レベルの精度を実現する完全自動4軸設計を備えています。これにより、楕円パラメータを広角範囲にわたって正確に監視することができ、高速で一貫性があります。また、周波数波長サービスや複数のビーム技術を解析して、広範囲にわたる反射データを測定することも可能です。TECHNICAL INSTRUMENT company KMS 310は、全範囲にわたって正確で再現性のある光学データをユーザーに提供する内部分光計を搭載しています。統合されたPEEK側面スキャンステージは、フィルムスタック全体の正確な3D楕円反射率マッピングをキャプチャします。これにより、新たな成膜・開発において、薄膜や薄膜の特性を正確に光学的に評価することができます。KMS 310は、要求の厳しい光学ベースの計測プロセスに優れた性能を提供します。MCVD (Multiple Channel Ellipsometer with Variable Measurement Delay)技術を採用し、直接アスペクト比の読み取りを改善しました。MCVDを使用すると、1回の測定サイクルで最大4つの波長位置を可変的に測定でき、角度分解解析が0。1°まで可能になります。この強力な技術により、ユーザーは信じられないほどの精度でサブナノメートルの範囲からサブミリメートルの範囲までのフィルムスタックを分析することができます。TECHNICAL INSTRUMENT COMPANY KMS 310は、研究室の薄膜および層の研究開発に必要なすべての機器を提供します。より高い角度分解能、より薄いフィルムの精度の向上、結果を得るまでの時間の短縮、表面解析の改善などです。高い再現性と精度により、ナノ加工関連のラボや半導体産業研究所に最適なツールです。
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