中古 THERMCO 5200 #9076495 を販売中

製造業者
THERMCO
モデル
5200
ID: 9076495
ウェーハサイズ: 6"
ヴィンテージ: 1995
Diffusion furnace / LPCVD, 6" (2) Tubes: Gate oxide (1) Tube: Oxide (1) Tube: poly LPCVD Four tubes with semi-auto boat loader Laminar flow and gas cabinet High temperature element with 40’’ flat zone Tube1: Poly (SiH4,N2O HCL,N2) Tube2: Poly (SiH4,N2O HCL,N2) Tube3: Poly (SiH4,N2O HCL,N2) Tube4: Poly (SiH4,N2O HCL,N2) 1995 vintage.
THERMCO 5200拡散炉は、半導体基板の熱処理を提供する強力で信頼性の高いソリューションです。このバッチ式の炉はドーピング、窒化、酸化、熱酸化およびアニーリングのような熱処理のためにとりわけ設計されています。炉にはドライブシステム、温度調節器、発熱体が含まれています。炉の最高温度は1200°Cで、200ミリバーの圧力まで作動できます。それは基質区域の上の均一な温度のプロフィールの暖房そして冷却の印象的な率を提供します。炉の構造は、高品質で耐熱性のある材料で設計されていますが、外側のケーシングは、高温および圧力の露出下でも生き残るように設計されたエポキシ被覆鋼で作られています。部屋のドアおよび他のハードウェアの陽極酸化されたアルミニウムシールと共に高温抵抗力がある絶縁材は最高の熱保持および安全を保障します。発熱体はモリブデン/タングステン合金ラップ付きグラファイトで作られており、均一性と強度を確保します。5200の真空システムは、回転式真空ポンプと前真空ポンプ付き拡散ポンプで構成されています。ロータリー真空ポンプは、チャンバーを大気圧から1mbarまで排出します。前真空ポンプは、大気圧から20 mbarにチャンバーを避難させます。拡散ポンプは20 mbarから10-8 mbarに部屋を避難させます、ゲッターポンプは部屋が締まるときも真空を維持します。高度の炉の制御システムは正確な温度調整を保障し、さまざまなバッチ・プロセスのためのLCD表示そしてプログラム可能な制御と設計されています。THERMCO 5200は、ユーザーの処理ニーズに固有のカスタマイズされた操作のためのアクセサリーのホストを提供しています。これらには、quartzwafer、手動および自動ローディングプラットフォーム、不活性ガス流量制御システム、温度センサー、およびさまざまな保護オプションが含まれます。また、タッチパネルコントローラが付属しており、処理サイクル中にハンズフリーチャンバー制御と監視を可能にします。5200拡散炉は、基板の熱処理のための堅牢で信頼性の高いソリューションです。その設計は部屋のドアおよび他のハードウェアが最高の熱保持を保障する間、温度調整の均一な温度配分そして高精度を可能にします。幅広い熱処理操作に適しており、その構成はユーザーの特定のニーズに合わせて調整することができます。
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