中古 TEMPRESS Furnace #293746534 を販売中
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ID: 293746534
TEMPRESSの炉は半導体材料の精密で、有効な熱処理のために設計されている最先端の拡散炉です。この高性能TEMPRESS炉は、均一な温度分布、正確なプロセス制御、および堅牢な信頼性を保証する高度な機能とアクセサリを備えています。炉の中心は高温および腐食性ガスに抗するために高純度の水晶材料から成っている拡散の管です。管は長さに沿って安定した温度のプロフィールを維持することによってさまざまなドーピングプロセスのための制御された環境を提供するように設計されています。これにより、半導体ウェーハはプロセス全体で一貫した熱処理を受けることができ、高い再現性と信頼性の高い結果が得られます。TEMPRESS炉の主な特徴の1つは、拡散管の長さに沿って独立して制御された発熱体からなるマルチゾーン加熱装置です。これにより、ウェーハ表面全体で正確な温度制御と均一な加熱が可能になり、温度勾配を最小限に抑え、一貫したプロセス条件を確保できます。炉の温度範囲は異なった半導体材料および処理ステップの特定の条件を満たすために調節することができます。温度の均一性と安定性をさらに高めるために、TEMPRESS炉には洗練された温度制御システムが装備されています。このユニットは、熱電対と温度センサーを使用して、拡散管の内部の温度を監視し、それに応じて発熱体を調整します。機械はプロセス環境の変動を自動的に補償することができ、所望の温度プロファイルが処理サイクル全体にわたって維持されるようにします。炉の拡散プロセスは、拡散管へのドーパントガスの流れを制御する精密なガス供給ツールによって促進されます。この資産には、マスフローコントローラとガス混合チャンバーが含まれており、ドーパントガスを所望の流量で正確に混合して供給します。これにより、半導体ウェーハが必要な期間のドーパントの正しい濃度にさらされ、正確で制御されたドーピングプロファイルが得られます。コア拡散TEMPRESS炉に加えて、TEMPRESSは、モデルの性能と機能を強化するためのアクセサリーやオプションの範囲を提供しています。これらのアクセサリには、ウェーハローディングシステム、プロセス監視ツール、ガス清浄機、クリーンルーム環境での炉の信頼性の高い動作を保証する安全機能が含まれます。また、TEMPRESS炉を特定のお客様の要件や用途に合わせてカスタマイズするカスタマイズサービスも提供しています。全体として、Furnaceは研究および生産環境における半導体材料の熱処理のための信頼性の高い汎用性の高いツールです。その高度な機能、正確な温度制御、堅牢な構造により、リン拡散、ホウ素拡散、アニーリングなど、さまざまなドーピングプロセスに最適です。TEMPRESS炉は、高効率で再現性に優れ、優れたデバイス性能と歩留まりを追求する半導体メーカーや研究機関にとって貴重な資産です。
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