中古 TEL / TOKYO ELECTRON UX-11P10-4HT #9198284 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON UX-11P10-4HTは、半導体業界で使用される拡散炉と付属アクセサリーです。シリコンウェーハへのインプラントガスの拡散を可能にするために使用されます。TEL UX-11P10-4HTは、シングルウェーハロードロックチャンバーで設計された拡散炉で、1サイクルで複数のウェーハに素早くアクセスできます。外形寸法は1130mm （W） x 980mm （D） x 1985mm （H）であり、標準的な最高プロセス温度は1100°C （2000°F）です。この炉は、最適な温度制御と比較的低い熱抵抗のために、高度なPOCVD （Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition）技術を使用しています。付属のソフトウェアは高度であり、拡散プロセスパラメータを正確に制御することができます。操作は部屋の外から監視することができ、他のオートメーション装置との容易な統合のために設計されています。拡散炉に加えて、付属品の完全なセットには、さまざまなガスや材料の安全な取り扱いと供給を可能にするモジュラーガスボックスシステムが含まれています。熱電対インターフェースを備えており、ユーザーはプロセスをリアルタイムで監視することができます。提供された電源は、チャンバーに最大4KWを供給することができます。チャンバーの最適なイオン化を確保するために、高度なデュアル波形RF発電機が提供されています。東京エレクトロンUX-11P10-4HTの拡散炉は、すばやく簡単にアクセスできるように設計されています。チャンバー蓋に取り付けられた可動マニホールドと、プロセスチャンバーの拡散領域で一定の温度を供給する温度制御システムを備えています。部屋はヘリウム、アルゴンおよび窒素を含む異なった大気で、作動させることができます。全体として、UX-11P10-4HTは半導体産業のために設計された先進的で効率的な拡散炉システムです。付属のアクセサリーとソフトウェアを備え、標準的な拡散プロセスのすべてのニーズを満たします。これは、信頼性と安全性の両方を念頭に置いて設計されており、ユーザーのプロセスと優れた結果の安心を確保します。