中古 TEL / TOKYO ELECTRON UL 2604-10H #61662 を販売中
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ID: 61662
Furnaces
Cantilever loading system
Pyrogenic gas system
Furnace 1:
Tube 1:
Oxidation process
(5) MFC Gas jungles with SCHUMACHER TSC107 bubbler
MFC 1: High N2
MFC 2: High O2
MFC 3: Low O2
MFC 4: H2
MFC 5: Low N2 for SCHUMACHER Bubbler
H2 O2 Torch
Tube 2:
Oxidation process
(5) MFC Gas jungles with SCHUMACHER TSC107 Bubbler
MFC 1: High N2
MFC 2: High O2
MFC 3: Low O2
MFC 4: H2
MFC 5: Low N2 for SCHUMACHER Bubbler
H2 O2 Torch
Tube 3:
Boron diffusion process
(2) MFC Gas jungles with SCHUMACHER Bubbler TSC107
MFC 1: High N2
MFC 2: High O2
Tube 4:
Sinter process
MFC Gas jungle with SCHUMACHER bubbler TSC107
Furnace 2:
Tube 1:
Drive in process
(5) MFC Gas jungles with SCHUMACHER TSC107 bubbler
MFC 1: High N2
MFC 2: High O2
MFC 3: Low O2
MFC 4: H2
MFC 5: Low N2 for SCHUMACHER bubbler
H2 O2 Torch
Tube 2:
Drive in process
(5) MFC Gas jungles with SCHUMACHER TSC107 bubbler
MFC 1: High N2
MFC 2: High O2
MFC 3: Low O2
MFC 4: H2
MFC 5: Low N2 for SCHUMACHER bubbler
H2 O2 Torch
Tube 3:
Boron diffusion process
(2) MFC Gas jungles with SCHUMACHER bubbler TSC107
MFC 1: High N2
MFC 2: High O2
Tube 4:
Sinter process
MFC Gas jungle with SCHUMACHER bubbler TSC107.
TEL/TOKYO ELECTRON UL 2604-10Hは拡散炉&アクセサリーです。半導体製造に使用される先進的なツールです。メタライジング、誘電性メッキ、金属メッキなど、さまざまな基板上で薄膜やコーティングを成長させるために使用されます。TEL UL 2604-10H拡散炉はTEL製品のトップです。これは、生産品質の薄膜堆積のための市場で現在入手可能な最高温度定格と10加熱ゾーンを備えています。この製品の最大プロセス温度は2600°Cで、最大30kWのパワーレベルをサポートします。TOKYO ELECTRON UL 2604-10Hは、材料の成長と堆積を正確に制御するためのさまざまな制御オプションも提供しています。これには、Pt 100抵抗温度計の制御と過熱保護が含まれます。これにより、過熱によるプロセスエラーが迅速かつ効率的に修正されます。UL 2604-10Hは、超大型作業室を備えた二重鍛造のSILTECH Cu-Mo-Crるつぼ炉を備えています。これにより、はるかに大きな堆積面積を可能にし、ユーザーは優れた成膜均一性を達成することができます。その高性能に加えて、TEL/TOKYO ELECTRON UL 2604-10Hも信じられないほど信頼性と安全です。この炉は独自の安全装置を備えており、炉をプロセスおよび安全障害から監視および保護します。炉はまた、ほこりを防ぎ、システム内にほこりの粒子が残り、ほこりや有害な溶剤がチャンバーに入るのを防ぎます。TEL UL 2604-10Hには、クォーツるつぼ、C4超清浄処理モジュール、真空ユニットなど、さまざまなアクセサリーもあります。これにより、ユーザーはプロセスの特定のニーズを満たすために処理装置やコンポーネントをカスタマイズすることができます。TOKYO ELECTRON UL 2604-10H from TOKYO ELECTRONは、品質と性能の最高水準を満たすように設計された最高水準の熱蒸着マシンです。優れた温度、電力、制御機能、さまざまなアクセサリ、安全機能を備えたこの拡散炉&アクセサリーは、さまざまな半導体、微細加工、薄膜蒸着アプリケーションに最適です。
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