中古 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 8SE #9079967 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRONアルファ8SEは、半導体デバイス製造プロセスに使用される拡散炉およびアクセサリーです。それは信頼できる製作および信頼できる性能のために有名です。TEL ALPHA-8SE炉は、メーカーの多様なニーズを満たすために、さまざまな機能とオプションを提供しています。TOKYO ELECTRON ALPHA-8 SEは小型・低消費電力のため、中小規模の生産設備に最適です。TOKYO ELECTRON ALPHA 8S-E拡散炉には、アノードとカソードという2つの異なるプロセスチャンバーが付属しています。両方のチャンバーは、水循環装置によって冷却され、チャンバー内の最適な温度安定性と均一性を提供するために絶縁されています。TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 8S-Eの温度範囲は25〜1150°Cで、最大5°C/秒の制御可能なランプ速度です。温度範囲は、シリコン、ヒ素ガリウム、ゲルマニウムなど、ほとんどの入力および基板材料に適しています。ALPHA 8 S E拡散炉には、炉室内の温度均一性の変化を調節するシステムである均一補償III （UCIII）もあります。UCIIIは、蒸気供給ユニットと連携して、チャンバー全体で一貫した蒸気供給を保証します。このマシンはまた、長時間のプロセス中に基板バーンアウトの可能性を最小限に抑えるのに役立ちます。TOKYO ELECTRON ALPHA 8SEには化学蒸着（CVD）アクセサリを搭載し、希望する材料の薄膜を基板上に沈着させることができます。このプロセスは、電気接点などの部品を製造するために使用されます。これは、基板表面に堆積層を形成するために加熱されるチャンバーに化学蒸気を導入することによって動作します。このツールは、化学蒸気の流れと基板温度を制御するコンピュータ制御プロセスコントローラを介して制御されます。TEL ALPHA 8S-E拡散炉は、高度な安全部品も備えています。チャンバー圧力を監視する圧力トランスデューサと、緊急時に遠隔操作できるガス遮断バルブを備えています。炉にまた手動で作動させることができる緊急の締切りスイッチがあります。さらに、ALPHA 8S-Eには、炉の性能を監視し、コントロールユニットに問題を伝えるための資産が組み込まれています。全体として、TEL ALPHA 8 SEは信頼性が高く、効率的な拡散炉とアクセサリーです。安全で信頼性の高い操作のための高度な機能とコンポーネントを提供し、中小規模の生産設備に最適です。