中古 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 8S #293811673 を販売中

TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 8S
ID: 293811673
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 2018
Furnace, 8" Process: Phosphoryl chloride (POCl₃) deposition 2018 vintage.
TheTELTEL/TOKYO ELECTRON Alpha 8Sは、半導体業界におけるアプリケーション向けの拡散炉およびアクセサリパッケージです。レーザーインプラント、エピタキシー、ウェット酸化、熱処理、ゲート酸化、イオンインプラントなどの高度なプロセスに必要な精度と均一性を提供するように設計されています。この炉および付属品のパッケージは精密な層の厚さおよび均一性を保障し、システムのダウンタイムを最小にするために特定のプロセス条件を満たすために合わせられます。TEL ALPHA-8Sは、ウェーハを装填する外部チャンバーと、拡散プロセスを行う内部チャンバで構成されています。外側のチャンバーの中央には、自動ウェーハカセットホルダーが装備されています。ホルダーの各コーナーにあるリフトにより、ウェーハを内側のチャンバーに優しく移して加工することができます。内部の部屋は精密に制御することができる多数の拡散源が装備されています。TOKYO ELECTRON ALPHA 8 Sに付属する多くのアクセサリーの中には、ホットウォールソースがあります。これにより、サブミクロンの厚さと優れた品質で熱酸化物を均一に蒸着させることができます。このソースを利用して、90%以上の均一性の拡散層を達成することができます。東京電子ALPHA-8SにはC-MOSゲート拡散源もあり、ゲート寸法や膜厚を精密に制御することができます。これらの拡散源に加えて、TEL ALPHA 8 Sには、エッチングおよび酸化ガスの効率的な供給を確保するための堅牢なガスユニットが付属しています。この機械は容易な取付けのための特別な管そして弁と前包まれます。TEL Alpha 8Sには、高精度のオンウェーハ温度制御ツールも含まれています。これにより、ウェーハ表面全体に均一な熱分布が可能になります。結論として、TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA-8Sは、複雑な半導体プロセスに最適な高性能な拡散炉アセットおよびアクセサリパッケージです。これは、高度なデバイス製造タスクに必要な精度と均一性のレベルを提供する多くの機能を備えています。特殊ガスモデル、オンウェーハ温度制御装置、ホットウォールソースにより、信頼性の高い効率的な拡散プロセスを保証します。
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