中古 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 8S #293775114 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 8Sは、シリコンウェーハ上に金属を堆積させるために設計された拡散炉および関連アクセサリーです。TEL ALPHA-8Sは、超高真空装置を採用した金属化学蒸着炉（MOCVD）です。3つの独立したガスラインを備え、独立した温度制御を提供します。TOKYO ELECTRON ALPHA 8 Sは、最も信頼性の高いMOCVDシステムの1つであり、多くの場合、ガリウムヒ素、インジウムフォスピード、およびインジウムアンチモニドなどのIII-V化合物半導体層の製造に使用されています。TEL ALPHA-8 Sは、10-11 Torrの真空範囲を備えた先進の超高真空（UHV）システムを備えています。このレベルの真空では、酸素汚染は存在せず、材料消費量を大幅に削減して高品質のエピタキシャル層をもたらします。また、分子レベルでプロセスガスを制御し、プロセスガスの意図しない逃避を防ぐための高度な水晶結晶マイクロバランス（QCM）を備えています。さらに、TEL ALPHA 8 Sは最大3つのウェーハを同時に処理できるため、生産効率が向上します。TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 8 S拡散炉は、総合的な安全機能を備えています。放熱機能が強化されたミラー加熱ユニットや石英ロック機構などがスラグ形成を防ぎ、ドアが開くと蓋の安全操作が自動的にプロセスを停止します。TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA-8Sには反射防止コーティング（ARC）装置も搭載しており、ミラーとサンプルの光干渉を防ぎます。東京電子ALPHA-8Sは、ハードウェアや外部機器において、塩素ガスや窒素ガスの供給システム、ロボット、ガス流量制御装置、遠隔操作システムなどのアクセサリに対応しています。Alpha 8Sには、ウェーハの温度を測定するための高速かつ正確な石英温度計と、ウェーハの表面を監視するための高感度赤外線反射カメラが装備されています安全および制御操作のために、ALPHA-8 Sは自由にプログラム可能な警告システムとタッチスクリーンのグラフィカルユーザーインタフェースツール（GUI）を採用しています。結論として、ALPHA-8Sは、それが様々な製造プロセスで使用することを可能にするハードウェアとソフトウェア機能の広大な範囲を持つ高度な拡散炉です。高度なUHVアセットにより、高品質のエピタキシャル層の堆積に理想的であり、安全機能により安全で信頼性の高い動作を保証します。TOKYO ELECTRON ALPHA 8Sは、ヒ素ガリウム、リン酸インジウム、アンチモン層インジウムなどのIII-V化合物半導体層での使用に最適です。