中古 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 8S #190768 を販売中
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販売された
ID: 190768
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 2000
Diffusion furnace, 8"
Specifications:
- AP-FTP oxidation current configuration (Tunnel Ox)
- “Thin” oxide
- Atmospheric torch
- 50 production wafers load size
- Boat rotation
- H2 detection and digital gas monitor
- 72.4 KVA transformers
Gas System
- House N2 2x
- UHP N2 (cylinder) 1x
- Argon
- O2
- H2
- HCl
General
- Wafer type: Notch type
- Signal tower: 3 color (RYG)
- I/O Type
- AGV compatibility: none
- Rapid cooling unit: use
- Load lock system: None
- Production wafer qty: max 150 wafer/batch
Controller and Software
- HD version: WAVES V2.48 R007[S801FE-0005]
- Release date: 2006/6/27
- HDD Capacity: 4.3 GB
Power
- Heater: 50/60Hz, 480V, 3Ph
- Controller: 50/60Hz, 208V, 1Ph
- Pump: none
Controllers
- Main system controller: WAVES, with back remote
- Temperature controller: Model-560
- Pressure controller: Model-none
- Mecha controller: T-BAWL
- Burn controller: HEC Pyro controller
- MFC controller: Model-none
MFC1 Tylan Ar 30SLM
MFC2 Tylan O2 10SLM
MFC3 Tylan O2 30SLM
MFC4 Tylan O2 10SLM
MFC5 Tylan O2 3SLM
MFC6 Tylan H2 10SLM
MFC7 Tylan H2 3SLM
MFC8 Tylan HCl 3SLM
MFC9 Tylan N2 30SLM
2000 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 8Sは、高温プロセスの制御と精度を向上させるために設計された高度な拡散炉です。高耐久性の設計と構造、高度な電源とコントローラを備えており、複数の基板サイズと形状で正確な結果を得ることができます。TEL ALPHA-8Sは、優れた温度均一性を提供し、酸化物蒸着などの半導体製造プロセスや、MEMS/NEMSを含むデバイスプロトタイピングに最適です。TOKYO ELECTRON ALPHA 8 Sの主な特徴は、最大性能と温度の均一性に応じて個別に調整可能な2つの加熱素子を提供するデュアルホットゾーン装置です。各加熱ゾーンの温度を正確に制御および監視することができ、正確かつ再現性のあるプロセス結果を実現します。ホットゾーンは不活性な雰囲気の中に囲まれており、炉室内の安定した熱環境を提供し、汚染や酸化を防ぎます。TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA-8Sは、プログラム可能なエンドオブランのシャットオフ機能を備えており、システムが所望の結果を達成したときにプロセスを停止することを保証します。また、処理中に基板を確実に保持する高度な空気圧処理ユニットを備えており、高速で信頼性の高い動作を可能にします。炉のふたは基質への容易なアクセスのために取除くことができ、熱い表面との偶然の接触を避けるために安全端の保護を特色にします。ALPHA-8 Sには強力な制御装置が搭載されており、プロセス全体をシングルポイントで制御することができます。日本モジュラーオートプログラミングソフトウェアを内蔵し、高度な処理オプションと設定を簡単にプログラムできます。TOKYO ELECTRON ALPHA-8 Sには、ウェハハンドリングとフェッチ機能を備えた自動ウェハトランスファーステーションがあり、スループットと再現性を向上させます。フルウェーハと小物の両方に適しており、基板の効率的かつ信頼性の高い転送を可能にします。さらに、ALPHA-8Sは、ガスインジェクションシステム、ガスヘッダー、ポンピングシステム、プロセスモニターなど、幅広い先進的なアクセサリーで利用できます。これらのアクセサリは、包括的なプロセス制御を可能にし、拡散プロセスのより大きな制御を提供します。要するに、TEL Alpha 8Sは、優れたプロセス制御と性能を提供するために特別に設計された高度な拡散炉です。これは、効率的で信頼性の高い操作を確保するための機能とアクセサリのホストを備えています。
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