中古 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 8S-Z #9239924 を販売中
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ID: 9239924
ヴィンテージ: 2000
Furnace
Polyimide cure
Quartz heater, P/N: 2187-323602-1C
PSU and UPS
2000 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRONアルファ8S-Zは、半導体回路の製造に使用される拡散炉およびアクセサリーです。アニーリング、酸化、エッチングなど高温を必要とする工程向けに設計されています。TEL ALPHA 8SZは、炉の中の大気を制御するための一体型の装置を備えたトップローディング設計を採用しており、幅広い用途での使用に適しています。さらに、デュアルバーナー、オゾン破壊システム、保護真空バルブなどの高度な安全機能により、拡散炉は非常に信頼性が高くなります。TOKYO ELECTRON ALPHA 8 S-Zは、直径300mmのウェーハを加工するように設計されています。これは、2つのレベルのヒーター、高温ゾーン（HTZ）と低温ゾーン（LTZ）が付属しています。HTZの最大温度は1700°Cで、ウェーハ全体±平均1°Cです。LTZは開発プロセスに使用され、最高温度は800°Cです。HTZとLTZの温度制御精度は0。1°Cです。Alpha 8S-Zには高度なPID（比例積分微分）コントローラが装備されており、高精度な温度制御を実現しています。完全にプログラム可能なコントローラは、インテリジェントなユーザーインターフェイスとビジュアルアラームを使用して、ユーザーにプロセスに関する情報を提供します。また、リモートモニタリングユニットを介して炉を遠隔操作し、複数のバッチプロセスに使用できます。TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 8 S-Zには、シングルテーブルベルト内転送機を内蔵しています。これにより、炉内への基板の迅速かつ効率的な移動が可能になります。このツールは、最適なローディングとアンロードのためにトラベリングクランププレート設計を使用します。これにより、基板がローディング、冷却、アニーリングプロセス間で安全に輸送されることが保証されます。TEL ALPHA 8 S Z拡散炉は、高度な乾式真空ポンプ技術を使用して、高いプロセス再現性と優れたプロセス品質を提供します。この炉には、LTZセクションとHTZセクション用の独立した乾式真空ポンプが装備されており、真空条件に対するより大きな制御を提供します。さらに、TEL ALPHA 8 S-Zは、高度なオゾン破壊技術を活用し、プロセス雰囲気中のオゾン量を削減します。この技術は、セラミックオゾン破壊触媒に基づいており、処理されたウェーハにおけるオゾン汚染のリスクを低減するのに役立ちます。TOKYO ELECTRON ALPHA 8SZは、信頼性と使いやすさを追求した先進的な拡散炉です。高温・低温の幅広いプロセスに最適化され、乾燥真空ポンプ、オゾン破壊技術、内部転送資産などの機能を備えており、ユーザーの利便性とプロセス品質の向上を実現しています。
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