中古 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 808SD #293759916 を販売中

ID: 293759916
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 1995
Furnace, 8" Process: HTSIC WDRIV CIM: SECS Carrier and wafer transfer unit ASYST / Pb90C SMIF Layout type: U / box type LL Hand VMU-40-007 Heater Torch heater Gases: N2, O2, H2, Trans-LC Wafer Type: SEMI STD-Notch Cassette Type: Entergris / XT200-01E (25) Cassette wafers (16) Cassettes Fork type / material: 1+4 / AI208 Fork variable pitch TS4000Z System controller Pyro CTL Torch controller Signal tower colours: G/R/A Pressure display units: Pressure Mpa Cabinet exhaust display units: Kpa M121 Furnace temperature controller Does not include Quartzware Gas distribution: Conventional gas system Tubing material: Stainless steel Finish: Electro-polished FUJIKIN manual and air-operated valve MFC Power: Single phase, 120 VAC 3 Phase, 208 VAC UPS Input voltage / output voltage: 120/100 V 1995 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 808SDは、集積回路(IC)の製造に使用される拡散炉およびアクセサリです。この装置は、ドーパントを基板に拡散させるための再現性と信頼性の高い熱処理を提供します。TEL Alpha 808SDは、ウェーハ処理の制御と監視を可能にするディスプレイを備えています。ヒドラジン酸化室、平板石英炉、排気プレナムを備えたオープンチューブ設計です。ヒドラジン酸化チャンバーは、シリコンおよびその他の高温プロセスステップの高温酸化を促進するように設計されています。フラットプレートクォーツリアクターは、高いスループットを維持しながら、ウェーハ全体の均一な温度を確保するように設計されています。排気プレナムは、水素とその部品の効率的な排気を提供するように設計されています。システムは1200°Cの最高温度の2つの大きい発熱体が、装備されています。また、温度、時間、流量などの熱処理パラメータを正確に制御できるプロセス制御も備えています。これにより、再現性と信頼性の高いウェーハ処理が保証されます。TOKYO ELECTRON ALPHA 808 SDには、ウェーハの高速加熱と迅速な冷却を可能にする4ゾーン加熱ユニットが搭載されています。機械に制御の下で部屋の中の周囲条件を保つのを助ける自動ガス配達用具があります。Alpha 808Sは主要な部屋の漏出のための漏出検出を提供します。また、正圧下でのウェーハのロードとアンロードを可能にするサンプル負荷ポートも含まれています。TOKYO ELECTRON Alpha 808SDは、モジュラー設計によるステンレス構造です。ステンレス鋼は容易な維持および取付けを提供します。また、漏れのない環境を確保します。アルファ808SDアセットには、サンプルホルダー、クーラントキット、カーボンロッド、フィラメントキット、シールドなど、複数のアクセサリーが付属しています。全体として、TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 808 SDは、再現性と信頼性の高いウェーハ拡散処理を提供するように設計された堅牢で信頼性の高い拡散炉およびアクセサリです。高品質なICの製造に最適です。
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