中古 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 805D #293806762 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 805Dは、半導体チップなどの電子部品の製造に使用される拡散炉およびアクセサリーです。これは、ドーピング、熱酸化、アニーリングなどの幅広い用途に高温および高精度を提供するように設計されています。TEL Alpha 805Dは高温動作用に特別に設計されており、1800°Cまでの温度に達することができます。温度を正確に再現できるため、大量生産プロセスに最適です。このシステムには、高温定数の高精度な温度調節器が装備されており、± 2°C以内の均一な熱分布と熱勾配を可能にし、炉は最高レベルの精度と精度で動作することができます。東京電子アルファ805Dは、軽いスシッションドーピング（LSD）、高圧湿潤酸化（HPWO）、低圧乾燥酸化（LPDO）など、さまざまな拡散動作に使用できます。LSDは軽いガスを使用して基板材料に化学反応を起こすドーピングの一種であり、その結果、より速い拡散率とより低い熱予算をもたらします。HPWOは、酸素やオゾンガスなどの高圧および湿った酸化剤を溶液にあらかじめ混合してから炉に送り込む酸化プロセスです。これにより、従来の方法よりも迅速かつ効率的に酸化プロセスを実行することができます。最後に、LPDOは窒素などの低圧、低温の酸化ガスを使用し、より低い熱予算を採用する乾燥酸化プロセスです。アルファ805Dにより、高精度な高温拡散処理を実現します。SiC基板、GaAs基板、GaN基板など幅広い基板・材料に使用できるように設計されています。また、TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 805Dは、既存のシステムに容易に統合され、VSC-8300、 VSC-3000、およびVSC-1800制御装置と統合され、精度と制御が向上します。TEL Alpha 805Dは、自動シャットダウン機能や緊急時の対応機能など、安全性と信頼性を最高レベルに保つための多くの安全機能とプロトコルを備えています。さらに、炉はステンレス鋼の暖房室および優秀な耐久性および害の減少のための不活性ガスのatmoshereと造られます。TOKYO ELECTRON Alpha 805D拡散炉とアクセサリーは汎用性と信頼性に優れたシステムで、多種多様な用途に使用できます。高い精度と精度、安全性と信頼性により、電子部品や半導体チップの製造と製造に最適なツールです。