中古 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 805D #293792359 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 805Dは、半導体産業でシリコンウェーハを製造するために使用される拡散炉およびアクセサリーです。最高温度は1600°C、急速熱処理（RTP）装置、3ゾーン統合ガス制御システムを備えています。高度なデバイス製造に必要な最適な均一性を低コストで提供することができます。TELアルファ805D拡散炉は、均一性と均一な温度分布を提供するように設計された石英垂直タイプのチャンバーを備えています。クォーツチャンバーは、最大制御可能な拡散環境を提供する3つのチャンバー、上部、中央、下部で構成されています。さらに、チャンバーにはビューポートと安全のためのインターロックがあります。東京電子アルファ805D拡散炉には、3ゾーン統合ガス制御システムが搭載されています。これらのシステムは、ガス供給条件とチャンバの環境圧力を監視することにより、3つのチャンバーごとに正確な低接触ガス混合と流量制御を提供します。アルファ805D拡散炉は、急速熱処理（RTP）システムも備えています。このユニットは、チャンバ環境の急速な加熱と冷却を可能にすることにより、拡散プロセスの効率を高めます。機械はユーザーがプロセスの暖房および冷却率、および時間および温度を置くことを可能にします。TEL/TOKYO ELECTRONアルファ805D拡散炉には精密真空ポンプも含まれています。このポンプは最適な結果のための部屋の中の均一で、安定した圧力を維持するのに使用することができます。また、チャンバー内の均一な温度を維持する高性能温度制御メカニズムを備えています。最後に、TEL Alpha 805D拡散炉には高度な監視ツールが装備されています。このアセットは、各ゾーンとチャンバーの温度と圧力を監視するだけでなく、設定ポイント、プロセス時間、エラーなど、拡散プロセスに関連するすべてのパラメータを追跡するために使用できます。TOKYO ELECTRON Alpha 805D拡散炉は、効率的かつ正確なシリコンウェハ製造方法を提供し、特性の均一性と均一性を低コストかつ安全性を向上させます。半導体業界に適した信頼性と費用対効果の高い拡散モデルです。