中古 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 8 #9071279 を販売中
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ID: 9071279
Diffusion furnace
Silicon Carbide
Vertical technology
Process tubes, tube, liner tubes, outer tubes
Pedestals
Boats, wafer carriers, carriers.
TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 8は、薄膜蒸着処理において最も効率的で経済的な性能を実現するために作られた拡散炉&アクセサリーです。TEL Alpha 8は、高度なプロセス機能と革新的な制御アーキテクチャを備えており、炉のセットアップ、調整、監視をこれまで以上に簡単かつ効率的に行うことができます。人間工学に基づいて設計された直感的なソフトウェアにより、オペレータはパラメータ、プログラム、およびアクセスデータを迅速かつ正確に調整できます。独自の低排出設計により、クリーンで効率的な炉を実現し、一貫した高品質な製品を生み出します。TOKYO ELECTRON ALPHA-8は、最大4インチの直径2インチのウェーハと大型基板に対応できる広々としたチャンバーを備えています。広々としたデザインは、ドーナツのソースやチャンバー内にある他の要素を調整するための十分な部屋を可能にします。TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA-8の高温性能は、急速熱処理(RTP)用途では最大1275°C、静的用途では最大550°Cに達します。二重壁の構造は壁の間の優秀な絶縁材を提供し、熱損失を防ぎ、温度の均等性を最大にします。加熱されたチャンバーには、システムにリアクタントを導入するための蒸気源が装備されています。特許取得済みの3ウェイシャットオフ弁に加えて、チャンバーをいつでも分離してパージすることができます。ALPHA-8の温度均一性は、様々な蒸着技術のために調整することができる高度な排気システムを介して維持されます。内蔵のデータロギングシステムにより、オペレータは過去のデータを確認して面倒なパラメータを調査したり、プロセスを調整したりすることができます。パラメータ、プログラム、設定をメモリカードに保存できるため、プログラム情報を複数のTOKYO ELECTRON Alpha 8ユニットに素早く簡単に転送できます。オンボード抵抗計を使用すると、フィルムレジスタンスに関するフィードバックが得られ、ユーザーはプロセス条件の変化を追跡し、必要に応じて即座に設定を調整することができます。最適な生産性を確保するため、TEL ALPHA-8には、1つのコントローラで複数のゾーンを制御するマルチゾーンコントローラが装備されています。Alpha 8は、角度成膜用のロータリーウェーハサセプター、フィルム成膜を観察するためのクォーツビューアウィンドウ、RTPアプリケーション用のイオン源など、多くのオプション機能を提供します。これらの機能はすべて、幅広いニーズとプロセスに対応する高度な機能を提供します。TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 8は、高度で信頼性の高い拡散炉とアクセサリーをユーザーに提供します。TEL Alpha 8は、直感的な機能、高度な制御アーキテクチャ、マルチゾーン制御、優れた温度均一性を備えた経済的で安全な選択肢です。
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