中古 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i #9357815 を販売中
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ID: 9357815
ウェーハサイズ: 12"
LP P-Doped poly furnace, 12"
Process: D-Poly-small flow
Boat operation: (2) Boats
ASYST / ATR9100
Furnace unit:
Heater type: VMM-56-002 5 zones / 500°C -1000°C
T/C For over temperature protection: Kit, chamber O.H.SNSR
Temperature controller: MA901-8FK09-Z250A
Wafer / Carrier handing:
Wafer type: Semi standard notch, 12"
Carrier type: FOUP / 25-Slots
(16) Carrier storages
Fork type / material: 1+4 / Al203
W/T Wafer I/F speed (U/D)
Wafer loading / Unloading sequence: ED => P => M / M => P => ED
Boat / Pedestal:
Production wafers: (100) Wafers
Boat material: SiC with CVD-coat
Boat type: (117) Slots ladder, 8mm
Boat rotation
Pedestal type: Quartz
Process tube:
Quartz outer and inner tube
Inner type: Straight
Internal T/C type
Outer tube interior wall type
Tube sealing: O-Ring seal
Fab constraint:
Waves system controller
Front operation panel
Front MMI and gas flow chart: MMI and GFC
General pressure display unit: Pressure-Mpa / Vac-Torr
Gas cabinet exhaust display unit: SI (Pa)
Furnace temperature controller: M560A
Vacuum system:
Main valve: CKD VEC
Vacuum exhaust system
Vacuum pressure controller: CKD VEC
Vacuum gage:
Pressure control: MKS Capacitance manometer
Press monitor: MKS Capacitance manometer (133 kPa)
Pump monitor: MKS Capacitance manometer
Gas distribution system:
Basic style: Integrated gas system
Tubing: Stainless steel / Electrical-polish (STD)
FUIJKIN Manual valve
FUIJKIN Air-operated valve
MYKROLIS Filter
VERIFLO Regulator
Soft backfill injector
MFC:
SiH4: 3 SLM
PH3: 500 SCCM
PH3: 50 SCCM
PH3: 30 SCCM
ClF3: 5 SLM
N2: 3 SLM
(4) N2: 5 SLM
Process pressure: 73 Pa, 133 Pa
Process temperature: 510°C, 525°C, 530°C.
TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303iは、IC関連の生産用に設計された高性能拡散炉装置です。それはより速く、より一貫した結果を可能にする高度の暖房装置が装備されています。炉は堅く、厚いステンレス鋼から長期信頼性および正確さを保障するために組み立てられます。これは、非常に高い速度で炉にサンプルを配置することができる自動サンプル転送ユニットが含まれています。性能面では、TEL ALPHA-303Iは最大900°Cの急速加熱時間を数分で実行することができます。これは、ヒートアッププロセス全体で非常に均一な温度を保証する革新的な温度制御マシンが装備されています。非常に大きな基板を使用しても、このツールは一貫した温度を維持することができます。また、東京電子ALPHA-303 Iには、消費電力を低減し、高品質な温度制御を実現する高度な電子パワー制御アセットを搭載しています。TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA-303パフォーマンスを向上させるための様々な機能を追加しました。化学蒸着（CVD）モジュールを内蔵しており、電気基板のドーピングを調整できるため、IC関連の生産に最適です。これに加えて、石英ボート、セラミックカバー、ベルジャーなどのさまざまなアクセサリーも含まれています。これらのアドオンは、ヒートアップ分布を改善することにより、デバイスのパフォーマンスをさらに向上させます。全体として、TEL ALPHA-303 IはIC関連の生産用に設計された高性能拡散炉モデルです。それは長寿および正確さを保障するためにステンレス鋼から組み立てられます。また、自動サンプル搬送装置、急速加熱時間、温度制御システム、CVDモジュールなど、さまざまな機能を備えています。さらに、パフォーマンスをさらに向上させることができるさまざまなアクセサリーが含まれています。
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