中古 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i #9213304 を販売中
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ID: 9213304
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2006
Vertical diffusion furnace, 12"
Process: MTO
Power box
I/O
Heater chamber
Exhaust box
Main top cover
I/O Top cover
Back door
Loadport
Operation panel
(3) Parts boxes
Lot capability: 50
Process speed per unit time:
Wafer CHG, loading: 40
Process: 2H
Wafer DIS-CHG, un-loading: 40
Clock bandwidth: 60 Hz
Frequency: 60 Hz
Power supply:
208 V, 200 A, 3 Phase (Heater)
200 V, 40 A, Single phase (Controller)
2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRONアルファ303iは、半導体製造プロセス向けに設計された最先端の拡散炉です。このツールは、ドーパント材料のシリコンウェーハへの拡散を促進し、電気特性を変更することにより、高度な半導体デバイスの生産において重要な役割を果たします。TEL ALPHA-303Iは、拡散プロセスを正確に制御できる高度な機能と機能を備えており、高品質で高性能な半導体デバイスにつながります。TOKYO ELECTRON ALPHA-303 Iの特徴の1つは、高温性能で、高い精度と安定性で拡散プロセスに必要な温度を実現することです。このシステムは、最大X°Cまで温度に達することができ、ウェーハ表面全体にわたるドーパント材料の効率的かつ均一な拡散を保証します。この精密な温度制御は、製造される半導体デバイスの所望の電気特性を達成するために不可欠です。アルファ303iは、温度制御機能に加えて、ドーパントガスを精密にプロセスチャンバーに導入できる洗練されたガス供給ユニットを備えています。このガス供給機は、ドーパントガスの濃度と流れを正確に制御し、シリコンウェーハの均一で一貫したドーピングを保証します。このツールには高度な監視および制御システムも装備されており、オペレータはリアルタイムでガス流量パラメータを監視および調整し、最適な拡散結果を保証します。ALPHA-303は、複数のウェーハを同時に処理できる水平ウェーハ構成を特徴とし、半導体製造におけるスループットと効率を高めます。このアセットは、さまざまなサイズのウェーハに対応するように設計されているため、多目的でさまざまな生産要件に適応できます。モデルの水平構成により、すべてのウェーハにおける熱およびドーパントガスの均一な分布が保証され、一貫した信頼性の高い拡散結果が得られます。さらに、ALPHA 303 Iには、オペレータの保護と製造プロセスの完全性を確保するためのさまざまな安全機能が装備されています。この装置は、事故を防止し、業界の安全基準に準拠するために、包括的な安全インターロックとアラームで設計されています。また、TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA-303 Iには、問題や異常を早期に検出し、ダウンタイムを低減し、ウェーハ損傷のリスクを最小限に抑える診断・監視システムが内蔵されています。全体として、TEL ALPHA 303 I拡散炉システムは、半導体製造プロセスにおいて高度で信頼性の高いツールです。精密な温度制御、高度なガス供給ユニット、水平ウェハ構成、包括的な安全機能を備えたALPHA-303Iは、高品質で高性能なデバイスを効率的かつ効果的に製造するために必要な機能と制御を半導体メーカーに提供します。
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