中古 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i #293660114 を販売中
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ID: 293660114
ヴィンテージ: 2007
LPCVD Furnace
Process: TEOS
Heater: VMM-56-002
FUIIKIN Air valve
APC: CKD
Gas: N2-1, Pure N2-1, O2, TEOS CG100, N2-2
Power supply: AC 208V, 3-Phase, Single-Phase
2007 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303iは高温で高純度の半導体などを製造するために使用される拡散炉およびアクセサリです。TEL ALPHA-303Iは、1250°Cまで温度に達することができ、電気抵抗炉と冷却用ファンを内蔵しています。TOKYO ELECTRON ALPHA-303微細なダスト粒子を除去することでチャンバーの純度を維持できるガスろ過システムも搭載しています。全装置は高級なステンレス鋼から組み立てられ、温度の安定性を維持するために絶縁されたドアおよびオペレータ保護のための高度の安全システムが装備されています。炉内で均一な加熱・温度均一化を実現するため、渦加熱法を採用しています。渦巻き加熱方式は、ガスライン、ガスインジェクション、およびラインからのガスと注入ノズルを組み合わせるためのバイブレーター型スターラーを使用して渦電流の形を作り出します。この渦加熱方式は、よりスムーズな温度上昇とより迅速なヒートアップ時間を可能にします。ALPHA-303Iは50リットルの内部容積を持ち、酸素、メタン、アルゴン、窒素などの様々なガスで動作します。また、シリカ、シリコン化合物、アルミナ、窒化物、炭化物などのいくつかの充電材料とも互換性があります。また、TEL ALPHA-303 IにはAZS （Automatic Zone Setting）機能も搭載しており、炉内の工程ゾーンごとに温度、ガス、基板タイプなどさまざまな条件を設定することができます。TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA-303Iを使用することで、半導体、太陽電池などのクリーンで高品質な製品を実現できます。Alpha 303iの洗練された精度により、あらゆるウェーハで均一な加熱と冷却が可能になり、製品の品質と歩留まりが向上します。プロセスゾーンごとに異なる条件を設定できるため、この製品の機能がさらに強化され、ユーザーはマシンの機能を特定のニーズに合わせてカスタマイズすることができます。全体として、TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303 Iは、現代の製造業のニーズに応えるために設計された強力な拡散炉とアクセサリーです。複数の基材やガスを扱うことができるため、高品質で完璧な製品を幅広く生産するための汎用性と信頼性の高いツールです。
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