中古 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i #293658609 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303iは、シリコンウェーハの高精度熱処理用に設計された先進的な拡散炉およびアクセサリ装置です。このシステムは、シングルステージ、低ワット、RFベースの抵抗加熱技術を備えた超高速3ゾーン炉を利用しています。TEL ALPHA-303Iユニットは、お客様のニーズに合わせたシンプルかつ効率的な拡張を可能にするモジュラーです。さらに、炉は加熱シールド平面マグネトロンスパッタリング源、複数の高さ調整可能なローディングおよびアンロードラック、およびガスインレットマニホールドで設計されています。TOKYO ELECTRON ALPHA-303 Iの温度均一性は、高度なP。I。D。コントロールを利用した独自の3ゾーン炉のセットアップにより、2番目に高く評価されています。これにより、所望のプロセス温度がチャンバー内部全体にわたって正確かつ迅速に維持されます。特許取得済みの新しい触媒材料は、再現性とプロセスの安定性を保証します。また、チャンバー全体で最大2°Cの温度均一性など、高精度な均一性と再現性を実現±ように設計されています。ALPHA 303 Iもメンテナンスと操作の容易さのために設計されています。炉のセットアップは炉の背部そして底にあるステンレス鋼のアクセスカバーによって部屋および機械のすべての要素への速く、容易なアクセスのために設計されています。また、加工サイクル中に発生する排気ガスを効果的に除去する高性能吸引アセットを搭載しています。これにより、プロセス中に有害な発煙が発生しないことが保証されます。TEL/TOKYO ELECTRONのその他の特長ALPHA-303加熱時間や温度などの炉のパラメータを監視および調整する強力なマイクロプロセッサ制御モデルです。これにより、すべてのサイクルで正確で信頼性の高いプロセスが保証され、将来的に使用するためのパラメータを保存することができます。また、自動ウェハローディングシステムを搭載し、ダウンタイムの削減と生産性の向上に貢献します。Alpha 303iは、シリコンウェーハに高精度の熱処理ソリューションを提供する信頼性の高い高度な拡散炉です。この炉のモジュラー設計は容易な拡張を可能にし、強力なマイクロプロセッサ制御ツールは毎回正確で反復可能な動作を保証します。さらに、低ワットRFベースの加熱技術は正確な加熱を保証し、ガスインレットマニホールドは排気ガスの効果的な除去を保証します。この拡散炉アセットは、半導体デバイス向けの信頼性の高い精密熱処理ソリューションをお探しのお客様に最適です。