中古 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i #293592993 を販売中

TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i
ID: 293592993
ウェーハサイズ: 12"
LPCVD Furnaces, 12".
TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303iは、広範囲の半導体処理タスクを実行できる拡散炉および関連アクセサリです。タングステンハロゲンランプとガス混合物を使用して、TEL ALPHA-303Iは1250°C、そのサイズのための印象的な偉業まで温度を達成することができます。内蔵の温度コントローラとプログラマブルロジックコントローラ(PLC)により、精密でカスタマイズされた処理温度制御が可能です。東京電子ALPHA-303私は熱および化学蒸着、トリクロロシラン、またはぬれたエッチングのための特別なプロセス部屋を備えています。このアップグレードにより、シリコンまたはアルミニウム化合物、または電気的および光学的特性を高めることができるダイヤモンド状のカーボンフィルムを堆積またはエッチングすることが可能になります。TEL ALPHA 303アルミニウム、シルバー、ニッケル、チタンなど様々な金属を堆積またはエッチングする機能も提供しています。TOKYO ELECTRON ALPHA 303 Iには電源システムも搭載されており、他のほとんどの拡散プロセスよりも高い電流と電圧レベルで動作することができます。これにより、手動またはプログラム可能な電流および電圧制御により、処理時間を短縮し、横方向の拡散プロセスでの蒸着速度を向上させることができます。さらに、TEL ALPHA-303私はイオン注入、リソグラフィ、ドライエッチングなど、さまざまなプロセスで使用することができます。東京エレクトロンアルファ303iの高温真空性能は、熱均一性の向上、蒸着速度の向上、汚染の低減により、これらのプロセスに有利です。最後に、東京電子ALPHA-303Iにシングルウェーハロードロックシステム(SWLLS)を取り付け、拡散炉の性能をさらに向上させることができます。このシステムは、空気への露出を最小限に抑え、複数のウェハを迅速かつ均一に処理することができ、研究開発のための大きな財産となります。結論として、ALPHA 303 I拡散炉は、半導体加工のための強力で汎用性の高いツールです。高温および真空能力と同時に複数のウエハを処理する能力があり、研究開発プロジェクトにとって魅力的な選択肢となっています。
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