中古 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i Nitride #293655836 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON Alpha-303i窒化物炉は、高性能基板加工装置です。様々な材料をシリコンなどの半導体基板に拡散させるのに理想的で、イオン注入から酸化、窒化への応用まで、あらゆる半導体デバイス処理が可能です。技術的能力に関しては、TEL Alpha-303i窒化物炉の最高温度は1250°Cで、最高の熱均一性は± 5°Cです。また、70 x 70 mm領域では± 0。9°C、 140 x 140 mm領域では± 2。2°Cの温度均一性を有しています。このシステムは150以上の熱周期の熱歴を維持することができ、大量生産の問題に使用することができます。その信頼性の高い積分ヒーターユニットは、± 0。2°Cの最高温度制御精度を保証します。リモートビューツール付きのピロメーターやガス流量制御アセットなど、さまざまな高度な機能を搭載しています。これにより、チャンバーからウェーハレベルまでの窒化物やその他の処理を正確に制御できます。窒化物炉はまた、温度でファクタリングしながらドーピングを制御することができます。これは、窒素の流れとシラン源ガスの流れのバランスを操作することによって行われます。それはまた改善された均等性のために設計されている高度の水晶より低い電極の構成を含んでいます。東京電子Alpha-303i窒化物炉は、信頼性の高い強力な基板加工ツールです。その先進的な機能により、幅広い高精度プロセスを実現し、最新の半導体デバイスと結晶成長技術を活用しています。温度制御精度と熱均一性により、中量から大量生産が一貫しています。また、高度なセンサーと自動制御システムを使用して、プロセス結果の安全性と品質を最大限に確保します。