中古 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i Nitride #293638695 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i窒化物は、半導体加工用に設計された拡散炉とアクセサリーです。この拡散炉は、1600°C〜3000°Cの拡散温度範囲と1050°Cまでの窒素周囲を備えています。その均一性と960°CAEの最高温度を検証し、in situ熱電対の測定で最適化しました。この炉はまた、急速な高温ランプアップとクールダウン機能を提供し、ユーザーは時間とエネルギーを節約することができます。この拡散炉は、さまざまな高度な機能を備えており、幅広い用途で材料の処理をサポートしています。Cpkランクの高いウェーハの高いスループットを提供し、ユーザーは高い歩留まりを達成することができます。この炉には、高度なPIDとFuzzy Logicアルゴリズムを使用した独自のコントローラが装備されており、正確な温度および大気制御が可能です。TEL Alpha 303i窒化物の排気システムは、粒子状汚染を抑制し、長期にわたって安定した運転を提供するように設計されています。この炉は、高プロセス歩留まりのために設計された超低ガス圧力と、低アウトガスを必要とする低温焼結アプリケーションで動作します。また、東京エレクトロンアルファ303i窒化物は、温度均一性を向上させるホットウォール設計を採用しており、追加冷却なしで工具間転送が可能です。また、大気からのバックグラウンドガスの除去を確実にするための多段環境制御システムが付属しています。窒化アルファ303iは、酸化物、窒化物、ポリシリコン沈着、酸化エッチング、金属化などのさまざまなプロセスをサポートするアクセサリーの範囲を持っています。このようなアクセサリには、静止範囲の線形運動段、中距離の線形運動段、サセプター、高度な温度制御システムなどがあります。また、LCDタッチスクリーンディスプレイが付属しており、ユーザーはプロセスの状態を簡単に監視できます。TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i窒化物は、さまざまな半導体加工アプリケーションに最適です。それは優秀な性能、精密な温度および大気制御、および高度の特徴および付属品の範囲を提供します。TEL Alpha 303i窒化物は競争力のあるコストで高い収量を保証し、高度な研究開発プロジェクトに最適です。